フィルム状モールドを用いた光学基板の製造方法、製造装置及び得られた光学基板

摘要

光学基板の製造方法は、凹凸パターン面を有する長尺状のフィルム状モールドを用意する工程Ｓ０と、フィルム状モールドの前記凹凸パターン面にゾルゲル材料の塗布を形成する工程Ｓ２と、前記ゾルゲル材料の塗膜が形成された前記フィルム状モールドの前記凹凸パターン面と基板を対向させて、押圧ロールを前記フィルム状モールドの前記凹凸パターン面と反対側の面に押し付けて前記凹凸パターン面に形成された前記塗膜を前記基板に密着させる工程Ｓ３と、前記フィルム状モールドを前記塗膜から剥離する工程Ｓ４と、前記基板に密着した塗膜を硬化する工程Ｓ５とを有する。光の回折や散乱に用いられ、耐熱性及び耐候性を有する光学基板を高いスループットで製造することができる。