发明名称 |
構造体、光取出し膜、電子デバイス及び構造体の形成方法 |
摘要 |
下記(A)成分及び下記(B)成分を含有する構造体形成用組成物を基材上に塗布する塗布工程と、塗布工程の後に引き置く引き置き工程と、引き置き工程の後に焼成する焼成工程とを有する方法によって、ポリイミド等を自己組織化させ凹凸を表面に有する構造体を形成する。(A)成分:ポリイミドからなる第1の重合体又はポリイミド前駆体からなる第1の重合体前駆体。(B)成分:(A)成分とは異なる第2の重合体又は第2の重合体前駆体、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルの少なくとも一方。 |
申请公布号 |
JPWO2014054703(A1) |
申请公布日期 |
2016.08.25 |
申请号 |
JP20140539793 |
申请日期 |
2013.10.02 |
申请人 |
日産化学工業株式会社 |
发明人 |
加藤 拓;佐藤 夏樹;飯沼 洋介;三木 徳俊;桜井 宏之;見山 幸広;鈴木 正睦 |
分类号 |
C08G73/10;C08J5/00;C08L79/08 |
主分类号 |
C08G73/10 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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