发明名称 |
基板处理装置及方法 |
摘要 |
本发明,系提供可在更乾净之状态下搬送基板的供以冷却基板用之基板处理装置及方法。作为本发明的一实施形态相关之基板处理装置的基板冷却装置(100),系具备:腔室(101);进行冷却之冷却部(109、112);具有供以于腔室内载置基板(S)用的基板载置面(103a),同时藉冷却部而冷却之基板保持器(103);及具有于腔室内包围基板载置面之侧方的侧壁部,同时藉冷却部而冷却之屏蔽(111)。再者,于屏蔽的内侧之面的附近,系设有屏蔽加热器(116)。 |
申请公布号 |
TW201532179 |
申请公布日期 |
2015.08.16 |
申请号 |
TW103138350 |
申请日期 |
2014.11.05 |
申请人 |
佳能安内华股份有限公司 CANON ANELVA CORPORATION |
发明人 |
梶原雄二 KAJIHARA, YUJI |
分类号 |
H01L21/68(2006.01);F25D3/10(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/68(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |