发明名称 |
电浆处理装置;PLASMA PROCESSING DEVICE |
摘要 |
本发明之目的在于提供一种电浆处理装置,其可在对供给到处理容器内的两种射频的其中任一方的功率以脉冲进行调变时,在输出未进行调变的连续波射频之射频电源侧,将负载功率稳定地维持在设定値。 为了达到上述目的,在本电浆处理装置中,在调变脉冲MS的各周期,在脉冲导通期间Ton与脉冲切断期间Toff,对作为控制变数的行进波功率PF所进行的回授控制的目标値,亦即控制指令値Con、Coff,系可切换。亦即,在脉冲导通期间Ton中,进行使行进波功率PF接近第1控制指令値Con的第1回授控制,在脉冲切断期间Toff中,进行使行进波功率PF接近第2控制指令値Coff的第2回授控制。 |
申请公布号 |
TW201532108 |
申请公布日期 |
2015.08.16 |
申请号 |
TW103138264 |
申请日期 |
2014.11.04 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
今野洋生 KONNO, HIROO;角冈俊助 KADOOKA, SHUNSUKE |
分类号 |
H01J37/32(2006.01) |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
周良谋周良吉 |
主权项 |
|
地址 |
日本 JP; |