发明名称 微电子机械系统被包封结构及其制造方法
摘要 本发明公开一种被包封微电子-机械系统(MEMS)及其制造方法,该方法包括:形成介电层;对介电层的上表面构图以形成沟槽;在沟槽内形成牺牲材料;对牺牲材料的上表面构图以形成另一沟槽;在另一沟槽内形成包括侧壁的第一包封层;在第一包封层内形成芯层;以及在芯层的上方形成第二包封层,其中第二包封层与第一包封层的侧壁相连接。替代地,该方法包括用光学掩模工艺制成多层MEMS结构,从而形成第一金属层、包括介电层和第二金属层的第二层、以及第三金属层。芯层和包封层由具有互补电学特性、机械特性和/或磁性的材料制成。
申请公布号 CN1292978C 申请公布日期 2007.01.03
申请号 CN03127731.4 申请日期 2003.08.08
申请人 国际商业机器公司 发明人 约瑟夫·T·科西斯;詹姆斯·托尼洛;凯文·皮特拉卡;理查德·沃兰特;塞沙德里·萨班纳
分类号 B81C1/00(2006.01) 主分类号 B81C1/00(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1、一种被包封微电子-机械系统(MEMS)的制造方法,包括:在半导体衬底上形成介电层;对该介电层的上表面构图以形成第一沟槽;在该第一沟槽内形成牺牲材料;对该牺牲材料的上表面构图以形成第二沟槽;在该第二沟槽内形成第一包封层,该第一包封层包括侧壁;在该第一包封层内形成芯层;以及在该芯层的上方形成第二包封层,该第二包封层与该第一包封层的侧壁相连接。
地址 美国纽约州