发明名称 一种附带操作机构的真空灭弧室
摘要 一种附带操作机构的真空灭弧室,包括有动触头(3)、静触头(11)、静导电杆(1)、动导电杆(4)、主屏蔽罩(2)、波纹管屏蔽罩(13)、电磁分闸机构、弹簧合闸系统,电磁分闸机构包括衔铁(5)、静铁芯(14)、分闸线圈(6)、绝缘筒(15)构成,将电磁操作机构安装在绝缘支架(7)上面,衔铁(5)与动导电杆(4)固定,静铁芯(6)固定于绝缘支架(7),通过绝缘支撑筒(17)与下法兰(9)连接在一起。本发明不存在动密封的问题,省去了波纹管,减小了真空断路器的体积,采用简单的直动连接方式,减少了故障发生的概率,每相有自己的独立的操作机构,减轻了机构的负载,有利于触头的开速开断。
申请公布号 CN105719893A 申请公布日期 2016.06.29
申请号 CN201410715908.0 申请日期 2014.12.02
申请人 沈阳工业大学 发明人 曹云东;曹雨晨;孙宏杰;侯春光;李静
分类号 H01H33/664(2006.01)I;H01H33/666(2006.01)I 主分类号 H01H33/664(2006.01)I
代理机构 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 代理人 韩辉
主权项 一种附带操作机构的真空灭弧室,其特征在于包括有动触头(3)、静触头(11)、静导电杆(1)、动导电杆(4)、主屏蔽罩(2)、波纹管屏蔽罩(13)、电磁分闸机构、弹簧合闸系统,电磁分闸机构包括有衔铁(5)、静铁芯(14)、分闸线圈(6)、绝缘筒(15),其中电磁操作机构安装在绝缘支架(7)上面,衔铁(5)与动导电杆(4)固定,静铁芯(6)固定于绝缘支架(7),通过绝缘支撑筒(17)与下法兰(9)连接在一起。
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