| 发明名称 | 图形形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种使通过浸渍光刻法得到的抗蚀图形具有良好形状的图形形成方法。在基板(101)上形成抗蚀膜(102)，将形成的抗蚀膜(102)的表面暴露于含有具有亲水基的酸性化合物如醋酸的水溶液(103)中。然后，在暴露于水溶液(103)中的抗蚀膜102上配置浸渍溶液(104)，在此状态下，对抗蚀膜(102)进行选择性曝光光(105)照射二进行图形曝光，接着，对已进行图形曝光的抗蚀膜(102)进行显影，从而从抗蚀膜(102)形成抗蚀图形(102a)。 | ||
| 申请公布号 | CN1629734A | 申请公布日期 | 2005.06.22 |
| 申请号 | CN200410102205.7 | 申请日期 | 2004.12.15 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 远藤政孝;笹子胜 |
| 分类号 | G03F7/20;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1、一种图形形成方法，其特征在于，具备：在基板上形成抗蚀膜的工序，将所述抗蚀膜暴露于含有具有亲水基的化合物的溶液中的工序，在所述抗蚀膜暴露于所述溶液之后将浸渍溶液配置在所述抗蚀膜上的状态下、对所述抗蚀膜进行选择性照射曝光光而进行图形曝光的工序，和对已进行图形曝光后的所述抗蚀膜进行显影的工序。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||