清洁光掩模板的装置和方法

摘要

本发明涉及半导体制造装备技术领域，尤其是一种清洁光掩模板的装置以及清洁方法。该装置包括具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与含离子气溶剂的产生装置连接；所述平台连接静电导出通道实现电位接地。本发明在有效去除光掩模板表面的微尘和沾污的同时，高效地去除了光掩模板表面的静电，避免了静电释放对光掩模板的损伤，提高了去除光掩模板表面微尘和沾污的效率，可以有效地延长光掩模在生产中的使用寿命。

主权项

一种清洁光掩模板的装置，其特征在于包括：具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与含离子气溶剂的产生装置连接，所述腔体的真空度高于所述含离子气溶剂的产生装置的真空度；所述平台连接静电导出通道实现电位接地；所述含离子气溶剂的产生装置包括气源、冷却器、真空腔以及离子发生器，所述气源一方面通过冷却器连接至真空腔，另一方面通过离子发生器连接至真空腔。