发明名称 ELECTRON BEAM EVAPORATION SOURCE AND VACUUM DEPOSITION APPARATUS
摘要 광범위하게 비산(飛散)하는 반사 전자를 안정적으로 포착하는 것이 가능한 전자빔 증발원 및 그것을 구비한 진공 증착 장치를 제공한다. 상기 전자빔 증발원은, 증발 재료 보지부와, 전자총과, 자기 회로부를 구비한다. 상기 증발 재료 보지부는, 제1 증발 재료를 보지(保持)하는 것이 가능한 제1 보지 영역을 가진다. 상기 전자총은, 상기 제1 보지 영역과 상기 제1 축 방향으로 나란히 배치되어, 상기 제1 보지 영역에 대해 전자빔을 출사하는 것이 가능하게 구성된다. 상기 자기 회로부는, 연자성(軟磁性) 재료로 구성된 자성판과, 상기 전자빔이 제1 증발 재료에서 반사한 반사 전자를 상기 자성판을 향해 편향시키는 것이 가능한 반사 전자 편향 부재를 가지고, 상기 전자총과 상기 제1 보지 영역을 사이에 두고 상기 제1 축 방향으로 나란히 배치된다.
申请公布号 KR20160086857(A) 申请公布日期 2016.07.20
申请号 KR20167014265 申请日期 2015.12.04
申请人 ULVAC, INC. 发明人 USHIRODA ISEI;YAJIMA TARO;ISONO KENICHI
分类号 H01J37/305;C23C14/30;C23C14/50;H01J37/065;H01J37/18 主分类号 H01J37/305
代理机构 代理人
主权项
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