发明名称 Kontaminationsanalyseeinheit und -verfahren sowie Retikelreinigungssystem
摘要 Die Erfindung bezieht sich auf eine Kontaminationsanalyseeinheit und ein Verfahren zum Inspizieren einer Kontamination auf einer Targetseite eines Inspektionsobjekts, wie eines gereinigten Retikels, sowie auf ein entsprechendes Retikelreinigungssystem. Die Kontaminationsanalyseeinheit der Erfindung beinhaltet ein Probenmodul (22) zum Absondern einer Probenflüssigkeit, die bereitgestellt wird, indem die Targetseite des Inspektionsobjekts mit einer Lösung in Kontakt gebracht wird, und einen Analysator (24), der konfiguriert ist, Verunreinigungen in der Probenflüssigkeit zu analysieren. Das Probenmodul beinhaltet eine Flüssigkeitswanne (200) mit einem Aufnahmeraum (220), der die Targetseite des Inspektionsobjekts aufnimmt, sowie eine Flüssigkeitszufuhrdüse (520), die so konfiguriert ist, dass die Lösung dem Aufnahmeraum der Flüssigkeitswanne zugeführt wird. Verwendung z. b. zum Behandeln von Retikeln für Photolithographieprozesse, die in der Halbleiterbauelementfertigung angewendet werden.
申请公布号 DE102008010345(A1) 申请公布日期 2008.09.11
申请号 DE20081010345 申请日期 2008.02.14
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. 发明人 LEE, OK-SUN;CHOI, HYUNG-SEOK;AHN, YO-HAN;KIM, JI-YOUNG
分类号 G01N1/28;G01N1/00;G01N1/10;G01N1/32;G01N1/34;G03F1/84 主分类号 G01N1/28
代理机构 代理人
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