| 摘要 |
赤外線を照射することにより基板を処理するための装置の公知の動作方法であって、前記装置は、複数の筒形の赤外線放射源をまとめた照射ユニットを有し、前記複数の赤外線放射源の長手軸は互いに平行に配置されており、前記動作方法は、（ａ）前記基板の達成すべき処理結果に依存して、総照射出力を設定するステップと、（ｂ）それぞれの目標動作出力で前記赤外線放射源を動作させるステップとを有する、公知の動作方法。当該公知の動作方法を背景として、前記装置を新規の動作方式に簡単かつ迅速に転換することができ、かつ、当該動作を簡単かつ低コストで動作させることができる効率的な動作方法を実現するため、本発明では、（ｃ）前記基板の達成すべき処理結果に依存して、目標放射スペクトルを設定するステップと、（ｄ）前記複数の赤外線放射源の各目標動作出力が加算されることにより、前記目標放射スペクトルおよび総照射スペクトルになるように、当該複数の赤外線放射源の各目標動作出力を個別に設定するステップと、を提案する。（ｅ）ただし、前記複数の赤外線放射源の構成は同一であり、前記総照射出力と設定された目標値との最大偏差は１５％であることを前提とする。 |
