| 发明名称 |
LASER ANNEALING APPARATUS AND ANNEALING METHOD OF SEMICONDUCTOR THIN FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050078186(A) |
申请公布日期 |
2005.08.04 |
| 申请号 |
KR20040092185 |
申请日期 |
2004.11.12 |
| 申请人 |
HITACHI DISPLAYS, LTD. |
发明人 |
HONGOU MIKIO;YAZAKI AKIO;HATANO MUTSUKO;NODA TAKESHI;TAKASAKI YUKIO |
| 分类号 |
B23K26/073;C30B13/24;C30B29/06;H01L21/20;H01L21/268;H01L29/04;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/324 |
主分类号 |
B23K26/073 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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