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发明名称
EJECTION APPARATUS AND CLEANING SYSTEM HAVING THE SAME
摘要
분사장치 및 이를 구비하는 세정시스템이 개시된다. 세정시스템은 기판에 약액을 분사하는 분사부, 분사부의 단부에 구비되며, 다공성 재질로 형성된 커버부, 커버부에 가스를 제공하는 공급부를 포함하며, 커버부를 통하여 가스가 분사됨으로써, 에어막이 형성되어 약액이 노즐부에 튀는 것을 방지하도록 구성이 가능하다.
申请公布号
KR20160115539(A)
申请公布日期
2016.10.06
申请号
KR20150043443
申请日期
2015.03.27
申请人
K.C.TECH CO., LTD.
发明人
LEE, JAI HONG
分类号
H01L21/02;B05B15/02;B08B3/02;H01L21/67
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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