Imprint lithography method method for manufacturing master template using the method and master template manufactured by the method

摘要

임프린트 리소그래피 방법은 제1 영역, 상기 제1 영역과 인접하는 제2 영역, 상기 제1 영역과 상기 제2 영역의 경계에 접하고 상기 제2 영역의 일부인 제3 영역 및 상기 경계에 접하고 상기 제1 영역의 일부인 제4 영역을 포함하는 베이스 기판을 제공하는 단계, 상기 베이스 기판 상에, 상기 제1 및 제3 영역 내에 제1 임프린트 패턴을 형성하는 단계, 상기 제1 임프린트 패턴이 형성된 상기 베이스 기판 상에, 상기 제2 영역을 커버하는 제1 레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 제1 임프린트 패턴 및 상기 제1 레지스트 패턴을 식각 장벽으로 하여 상기 제1 임프린트 패턴 하부를 식각하는 단계, 상기 제1 레지스트 패턴을 제거하는 단계, 상기 베이스 기판 상에, 상기 제2 영역 및 상기 제4 영역 내에 제2 임프린트 패턴을 형성하는 단계, 상기 제2 임프린트 패턴이 형성된 상기 베이스 기판 상에, 상기 제1 영역을 커버하는 제2 레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 제2 임프린트 패턴 및 상기 제2 레지스트 패턴을 식각 장벽으로 하여 상기 제2 임프린트 패턴 하부를 식각하는 단계, 및 상기 제2 레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함한다.