发明名称 - CVD METAL-FREE CVD COATING OF GRAPHENE ON GLASS AND OTHER DIELECTRIC SUBSTRATES
摘要 그래핀을 형성하기 위한 촉매-부재 CVD 방법. 상기 방법은, 반응 챔버 내에 기판을 놓는 단계, 상기 기판을 600℃ 내지 1100℃의 온도로 가열하는 단계, 및 상기 챔버로 탄소 전구체를 도입하는 단계 및 상기 기판의 표면상에 그래핀 층을 형성시키는 단계를 포함한다. 상기 방법은 금속 촉매 또는 플라즈마를 사용하지 않고 그래핀을 형성한다.
申请公布号 KR20160124832(A) 申请公布日期 2016.10.28
申请号 KR20167025662 申请日期 2015.02.13
申请人 CORNING INCORPORATED 发明人 LIU XINYUAN;MANLEY ROBERT GEORGE;MORENA ROBERT MICHAEL;SONG ZHEN
分类号 C01B31/04;C03C17/22;C04B41/87 主分类号 C01B31/04
代理机构 代理人
主权项
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