发明名称 |
- CVD METAL-FREE CVD COATING OF GRAPHENE ON GLASS AND OTHER DIELECTRIC SUBSTRATES |
摘要 |
그래핀을 형성하기 위한 촉매-부재 CVD 방법. 상기 방법은, 반응 챔버 내에 기판을 놓는 단계, 상기 기판을 600℃ 내지 1100℃의 온도로 가열하는 단계, 및 상기 챔버로 탄소 전구체를 도입하는 단계 및 상기 기판의 표면상에 그래핀 층을 형성시키는 단계를 포함한다. 상기 방법은 금속 촉매 또는 플라즈마를 사용하지 않고 그래핀을 형성한다. |
申请公布号 |
KR20160124832(A) |
申请公布日期 |
2016.10.28 |
申请号 |
KR20167025662 |
申请日期 |
2015.02.13 |
申请人 |
CORNING INCORPORATED |
发明人 |
LIU XINYUAN;MANLEY ROBERT GEORGE;MORENA ROBERT MICHAEL;SONG ZHEN |
分类号 |
C01B31/04;C03C17/22;C04B41/87 |
主分类号 |
C01B31/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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