发明名称 一种发光二极管芯片及其制备方法
摘要 本发明公开了一种发光二极管芯片及其制备方法,属于半导体技术领域。所述发光二极管芯片包括衬底、以及依次层叠在衬底上的N型层、发光层、P型层,P型层上设有延伸至N型层的凹槽,P型层上设有电流阻挡层和透明导电层,电流阻挡层上设有P型电极,N型层上设有N型电极,电流阻挡层为SiO<sub>2</sub>层和SiN层的复合结构,SiO<sub>2</sub>层和SiN层的复合结构包括SiN层、以及设置在SiN层上的SiO<sub>2</sub>层,或者SiO<sub>2</sub>层和SiN层的复合结构包括SiO<sub>2</sub>层、以及设置在SiO<sub>2</sub>层上的SiN层,或者SiO<sub>2</sub>层和SiN层的复合结构包括SiO<sub>2</sub>层、以及插设在SiO<sub>2</sub>层中间的SiN层。本发明提高了LED芯片的良率。
申请公布号 CN105742437A 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201610117668.3 申请日期 2016.03.02
申请人 华灿光电(苏州)有限公司 发明人 孙虎;叶青贤;胡根水
分类号 H01L33/14(2010.01)I;H01L33/44(2010.01)I 主分类号 H01L33/14(2010.01)I
代理机构 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人 徐立
主权项 一种发光二极管芯片,所述发光二极管芯片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的N型层、发光层、P型层,所述P型层上设有延伸至所述N型层的凹槽,所述P型层上设有电流阻挡层和透明导电层,所述电流阻挡层上设有P型电极,所述N型层上设有N型电极,其特征在于,所述电流阻挡层为SiO<sub>2</sub>层和SiN层的复合结构,所述SiO<sub>2</sub>层和SiN层的复合结构包括SiN层、以及设置在所述SiN层上的SiO<sub>2</sub>层,或者所述SiO<sub>2</sub>层和SiN层的复合结构包括SiO<sub>2</sub>层、以及设置在所述SiO<sub>2</sub>层上的SiN层,或者所述SiO<sub>2</sub>层和SiN层的复合结构包括SiO<sub>2</sub>层、以及插设在所述SiO<sub>2</sub>层中间的SiN层。
地址 215600 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路