用以间隔件双图案微影的自我对准与非闪存选择栅字线

摘要

本申请涉及用以间隔件双图案微影的自我对准与非闪存选择栅字线。本发明揭露一种用以双图案微影的方法。在一实施例中，揭露有通过于光阻图案的周缘设置间隔件图案而开始形成于多个核心字线的任一侧上的一对选择栅字线。剥除该光阻图案而留下该间隔件图案。于该间隔件图案的一部分上设置修正掩模。蚀刻移除未被该修正掩模覆盖的间隔件图案的部分。移除该修正掩模，其中，该间隔件图案的第一剩余部分定义多个核心字线。设置垫掩模以致于该垫掩模及该间隔件图案的第二剩余部分于该多个核心字线的任一侧上定义选择栅字线。最后，使用垫掩模及间隔件图案的第一、第二剩余部分而蚀刻过至少一图案转移层，以蚀刻该选择栅字线及该多个核心字线至多晶硅层。

主权项

一种用以双图案微影的方法，包括以下步骤：于光阻图案的周缘设置间隔件图案；剥除该光阻图案而留下该间隔件图案；于该间隔件图案的一部分上设置修正掩模；蚀刻移除未被该修正掩模覆盖的该间隔件图案的部分；移除该修正掩模，其中，该间隔件图案的第一剩余部分定义多个核心字线；设置垫掩模以致于该垫掩模及该间隔件图案的第二剩余部分于该多个核心字线的任一侧上定义选择栅字线；以及使用该垫掩模及该间隔件图案的该第一、第二剩余部分而蚀刻过至少一图案转移层，以蚀刻该选择栅字线及该多个核心字线至多晶硅层。