发明名称 Verfahren zum Polieren der glatten Oberfläche eines Musters und Einrichtung zum Polieren der glatten Oberfläche eines Musters
摘要 Verfahren zum Polieren einer glatten Oberfläche eines Musters, einschließend: Platzieren eines Schleifmaterials auf einer flachen horizontalen Oberfläche eines Tellers (1), wobei die Oberfläche des Tellers (1) mit einer Ringborte ausgestattet ist, Auflegen des Musters (2) mit der zu polierenden Seite nach unten auf die mit Schleifmaterial versehene Oberfläche des Tellers (1), Platzieren eines Stückes (4) auf dem Muster, wobei das Stück (4) eine ringförmige senkrechte Außenoberfläche hat, wobei der Durchmesser dieses Stückes (4) kleiner als der Durchmesser der Ringborte ist, Bewegung des Musters über eine Schicht des Schleifmaterials parallel zu der Oberfläche, indem der Oberfläche einige Drehschwingungsbewegungen beigegeben werden, gekennzeichnet durch, dass beim Drehen eines Antriebs (7) ein darauf eingerichteter Nocken (6) mit einem Vorsprung (5), mit dem der Teller (1) ausgestattet ist, zusammenwirkt und den Teller (1) um einen Winkel verdreht, und nachdem der Nocken (6) aus dem Eingriff mit dem Vorsprung (6) herauskommt, Federn (8) den Teller (1) in eine Ausgangsposition zurückziehen, wobei die Außenoberfläche des Stücks (4) mit der Ringborte des Tellers (1) zusammenwirkt und das Stück (4) um die eigene Achse dreht.
申请公布号 DE102010051136(B4) 申请公布日期 2016.11.10
申请号 DE20101051136 申请日期 2010.11.11
申请人 Granovskyy, Volodymyr 发明人 Granovskyy, Volodymyr
分类号 B24B27/00;B24B29/00 主分类号 B24B27/00
代理机构 代理人
主权项
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