| 主权项 |
1﹒一种方法用于处置一种氢氟矽酸水溶液以生产氟化氢及四氟化矽,在该处置中,一种含有以重量计百分之二十至百分之四十五H2SiF6的氢氟矽矽水溶液,在温度为160到240℃及压力为7至30大气压力下,被分离成一种含有氟化氢的水液相及主要含有四氟化矽的气相,其中该水液相在大气压力或降低的压力下,最佳是在50到300mmHg压力下,被蒸馏浓缩以产生氢氟酸。氢氟矽酸的馏余部份被留在残余物中。2﹒一种依照请求尃利部份第1项所请求的方法,在该方法中一稀的氢氟矽酸,最佳系在一降低的压力50至400KnHg间,被蒸馏浓缩至浓度为至多含百分之四十五重量的H2SIF6前。3﹒一种依照请求专利部份第1或2项所请求的方法,在该方法中四氟化矽在一水溶介质中被水解,产生之SiO2被滤除而溶液加回至该方法中处置氢氟矽酸的地方。4﹒一种依照请求专利部份第3项所请求的方法,在该方法中四氟化矽的水解作用系在起始的氢氟矽酸溶液中进行。5﹒一种依照请求专利都份第1至4项所请求的方法,实质上如说明书附图所描述者。注:本发明共有三个蒸馏或称分离的步骤:(1)自氢氟矽酸溶液中分离出四氟化矽的步骤。(2)自除去部份四氟化矽的水溶液中蒸发出氟化氢的步骤。 |
