| 主权项 |
1. 一种流体分离装置用以分离至少两种比重不同之不可混合流体之一种混合物,包括:一个封闭式分离室,与分离室相连之流体引入设施,用以引入各种流体混合物,延伸入该室内并在接邻该室底部之一端开口的第一垂直装配之。伸长流体柱设施,该流体柱设施之相对端垂直地延伸高于该室之上,并在室之外部开口,以便卸出分离室中的混合物中比重较大之不可混合流体,该流体柱设施在其接邻分离室底部之开口端与其相对端之间有一段经预先订定之长度H,及自该室向上垂直延伸之第二延伸流体柱设施,该第二延伸流体柱设施的低端在分离室之上部份开口进入该室内,而其上部开口端则垂直延伸高于第一延伸流体柱设施的相对端之上约一段距离d,d为大概等于H),其中,Sw代表比重较大之不可混合流体的比重,而Sc则代表混合物之其它流体的比重。2. 根据上述请求专利部份第1.项之装置在其中,第一及第二延伸流体柱设备包括伸长的管状导管。3. 根据上述请求专利部份第1.项之装置在其中,第一延伸流体柱设施在分离室内向下垂直延伸。4. 根据上述请求专利部份第1.项之装置在其中,第一延伸流体柱设施在分离室外部向下垂直延伸。5. 根据上述请求专利部份第1.项之装置在其中,第一延伸流体柱设施垂直延伸高于分离室之上的部份和第二延伸流体柱设 施之横切面面积为大于分离室之流体引入设施的横切面面积至少约10倍。6. 根据上述请求专利部份第1.项装置在其中,第二延伸流体柱设施包括用以调节,第二流体柱设施高于分离室关于第一延伸流体柱设施之相对端之上的上部开口端垂直高度的设施。7. 根据上述请求专利部份第1.项之装置更进一步包括装配在分离室内之用以加热分离室中流体的设施。8. 根据上述请求专利部份第7.项之装置在其中,该项流体加热装置包括装配置在该室内之加热蛇管。9. 根据上述请求专利部份第7.项之装置在其中,该项流体加热装置包括与分离室之流体引入设施连接的管道设施,其中包括装配在该管道设施内部中之流体障碍设施。10.根据上述请求专利部份第1.项之装置在其中,让等第一及第二流体柱设施另外包括各自与其相对端上和上部开口端上之卸出设施,以便分别自分离室中。卸出不可混合之流体,该项卸出设施之横切面面积为大概相等于或大于第一及第二延伸流体柱设施之面积者而且订定其大小,以防止由该项卸出设施卸出流体期间,在该等柱设施中有流体反压。11.根据上述请求专利部份第10.项之装置在其中,让项流体卸出设施包括垂直倾斜,向下延伸之导管设施,用以自第一及第二延伸流体柱设施和卸出设施中卸出流体。12.根据上述请求专利部份第6.项之装置在其中,用以调节第二延伸流体柱设施的垂直高度之设施包括可滑动之闸阀设施。13.根据上述请求专利部份第6项之装置在其中,用以调节第二延伸流体柱设施的垂直高度之设施包括可滑动之管线设施。14.根据上述请求专利部份第1.项之装置在其中,分离室另外包括:向下延伸入该室内之设施,用以将该室分隔成为许多分离隔间,在分离室以内,各隔间可相互沟通;在其中,第二延伸流体柱设施包括许多第二延伸流体柱设施,此等第二延伸流体柱设施中至少一个垂直向上地延伸高于分离室中各每一隔间;又在其中,流体引入设施包括许多流体引入设施,此等流体引入设施中至少一个向下延伸入分离室中每一隔间中,以使许多具有至少两种不可混合流体之混合物进入分离室之各隔间中,此等多第二延伸流体柱设施之每个上部开口端垂直地延伸高于第一延伸流体柱设施的相对端之上约一段距离d,此段距离约等于SwH( 一I>,其中Sw代表进入Sc该室之每一隔间中混合物中比重较大的不可混合流体之比重,而Sc代表进入该室之每一隔间混合物中其他流体的比重。15.根据上述请求专利部份第14.项之装置在其中,该分离室包括延伸入该室中各隔间之单独第一延伸流体柱设施。16.根据上述请求专利部份第14.项之装置在其中,该项分隔设施包括在分离室内许多平行相隔之垂直板构件。17.根据上述请求专利部份第16.项之装置在其中,该等板构件向下延伸入分离室内而达其底部,及在其中,分离室另外包括与该室中每一隔间相连之设施以使进入该室中各个隔间之混合物中比重较大之不可混合流体在该室各隔间流动。18.根据上述请求专利部份第17.项之装置在其中,容许比重较大之流体在该室各隔间中流动的设施包括延伸通过在分离室中之各板构件的流体导管设施,并与该室中各隔间之每一隔间相通。19.根据上述请求专利部份第18.项之装置,另外包括:与流体导管设施相连之阀设施,用以控制比重较大之流体在分离室中各隔间之流动。20.根据上述请求专利部份第14.项之装置在其中,该项分隔设施包括在分离室许多相互间隔之垂直圆筒构件。21.根据上述请求专利部份第20.项之装置在其中,让等圆筒构件向下延伸进入分离室内而达其底部,并包括在每件构件的垂直下端上之至少一个孔径设施以便进入该室中每个隔间的混合物中比重较大之不可混合流体在该室各隔间的至少两隔间中流动。 |
