| 主权项 |
1.一种具有气体沿轴向流通之至少一个激励管之气体雷射,包含供其电气激励用之电极装置与对于该激励管而设之至少一个气体入口装置和一个出口装置;该入口装置及/或出口装置分别含有入口及/或出口手段( 42,5258,60 ),供分布于该激励管(1)周围之该气体进出用,该入口及/或出口手段将该气体由该激励管之径向稳定地引导至该激励管之轴向,以利气体进入,及/或将该气体由该激励管之轴向稳定地引导至该激励管之径向,以利气体排出。2.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,至少该入口装置含有环状间隙喷嘴(52)。3.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,该入口手段与一个等化室( 44,44a)相连通、气体馈给装置( 9,46 )连接于此等化室。4.根据申请专利范围第3.项之气体雷射,该等化室( 44a )含有包围该激励管之轴线之环状室。5.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,该入口装置及/或该出口装置至少部份系由该电极装置( 28,30,34 ,54a ,54i ,70 ,74 ,82 ,84 )之至少一部份予以形成。6.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,该出口装置含有至少一个环形出口间隙(60)。7.根据申请专利范围第6.项之气体雷射、至少两个环状出口间隙( 60a ,b,c )沿该激励管轴线(A)之力向前后配置。8.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,该出口装置含有至少一个桶形环(76)沿该激励管(1)之周围安排。9.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,让出口装置至少部份形成该电极装置之至少一部份。10.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,该出口手段与收集室(66)相连通,收集室与气体排出管路装置(11)相连通,该收集室(66)最好由包围该激励管轴线之环状室予以形成。11.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,该出口装置(13)含有连接于该激励管(1)之压力气体管(78),该压力气体管(78)之嘴部最好与通过该激励管之该气体用之排出嘴(1)相对齐。12.根据申请专利范围第1.项之气体雷射,该电极装置之阳极及/或阴极含有沿轴向包围该激励管(1)之轴线而安排之若干个单独电极( 82 , 84 ),而且,设有控制单元(88),俾依预定之激发时间顺序执行该单独电极之电气控制. |
