发明名称 Rectangular gate vacuum valve and controlling method therefor and semiconductor manufacturing apparatus
摘要 사각 게이트 진공밸브 및 그 작동방법, 그리고 그를 구비하는 반도체 제조장치에 관한 발명이다. 본 발명의 사각 게이트 진공밸브는, 상호 대향되는 양측면에 제1 게이트와 제2 게이트가 형성되는 게이트 프레임; 상기 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 밸브 유닛; 및 상기 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 밸브 유닛을 포함한다.
申请公布号 KR20160119643(A) 申请公布日期 2016.10.14
申请号 KR20150048627 申请日期 2015.04.06
申请人 FUGEN CO., LTD. 发明人 AHN, HEE JUN
分类号 H01L21/02;F16K3/18 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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