| 主权项 |
1﹒一种正功能照像元件之制法,依序包括:(a)形成第一种光敏组合物,包括(i)以组合物固体部份重量,约1%至约25%重之式I所示敏化合物:其中R1=1,2─苯──2─二叠氮化物─4─磺醯基:1,2──2─二叠氮化物─4─磺醯基:或1,2─葱─2─二叠氮化物─4─磺醯基;R2=H,R4,OR3或C─R4R3=H,烷基,芳基,芳烷基或RR4=烷基,芳基或芳烷基(ii)由以组合物固体部份重量计约75%至约99%重之酚醛清漆,及/或聚乙烯酚树脂;以及(iii)由以上述组合物固体部份重量计约0﹒5%至约20%重之交联化合物,该化合物在步骤(d)所使用之加热条件下,当所述二叠氮化物暴露于光化射线时,所生酸之量及强度可使上述树脂交联;以及(iv)足够量之溶剂以溶解上述组合物成份;以及(b)将上述第1种组合物涂盖于适当基质上;以及(c)在约20℃至约100℃之温度下加热处理上述涂盖基质至溶剂乾燥而不黏为止,以及(d)以足够之光化射线对上述组合物进行完全之非影像曝光并提供足够热量使上述组合物部份交联而仍实质上保有其光敏度;以及(e)以包含邻─二叠氮化物,酚醛清漆及/或聚乙烯酚树脂之第二种光敏组合物涂盖于上述第1种光敏组合物上,其中,上述第一种光敏组合物及第二种光敏组合物对不同波长之紫外光线会发生反应;以及(f)将第二种光敏组合物以光化射线进行影像曝光,并显影而形成影像光罩;以及(9)经由上述光罩,以光化射线对上述第1种光敏组合物进行曝光并显像以去除第一种光敏组合物之曝光部份。2﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述第1种光敏组合物中之光敏剂为2,3,4─三羟基二苯甲酮─1,2──2─二叠氮化物─4─磺酸三酯。3﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述之交联剂为二甲醇对甲酚。4﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述之交联剂为甲基甲氧二苯基醚。5﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述之交联剂为一种密胺甲醛化合物或其任何烷化类似物。6﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述之交联剂为一种可熔酚醛树脂或一种环氧甲酚酚醛清漆树脂。7﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述第1种光敏组合物之溶剂包含丙二醇烷基醚醋酸酯。8﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述之基质系选自包含矽,铝或聚树脂,二氧化矽,含添加剂之二氧化矽,四氮化三矽,钽,铜,聚矽,陶瓷及铝/铜混合物。9﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述第1及第2种光敏组合物中各自另含一或多种选自包含着色剂,染料,抗条纹剂,溶剂,均化剂,增塑剂,黏附促进剂,加速剂,及表面活性剂组群之化合物。10﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述显像剂为一种硷性水溶液。11﹒根据申请专利范图第10项之制法,其中所述显像剂包含氢氧化钠及/或四甲基铵氢氧化物。12﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述树脂为酚醛清漆树脂,所述交联剂包含二甲醇对甲酚,所述曝光步骤(d)系由约5mJ/cm2至约40mJ/cm2及所述步骤(d)之热处理系在约90至160℃之温度下进行,以及所述显像剂包括一种氢氧化钠及/或四甲基铵氢氧化物之水溶液。13﹒根据申请专利范围第2项之制法,其中所述树脂为一种酚醛清漆,所述交联剂包含二甲基对甲酚,所述曝光步骤(d)系自约5mJ/cm2至约40mJ/cm2及所述步骤(d)之热处理系在约90至160℃之温度下进行,以及所述显像剂包含一种氢氧化钠及/或四甲基铵氢氧化物之水溶液。14﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中所述步骤(d)中之组合物并不曝露于光化射线。15﹒一种照像元件,其系根据申请专利范围第1项之制法制得。16﹒一种照像元件,其系根据申请专利范围第12项之制法制得。17﹒一种制造正功能照像元件之方法,依序包括:(a)形成第一种光敏组合物,包括(i)以组合物固体部份重量计,约1%至约25%重之以式Ⅱ、Ⅲ或Ⅳ所代表之光敏化合物:其中,RA为H,-X-Rb或-XX为C-C单键,-OY及至少一个为-OZ;其中Y为1,2-二叠氮化物-4-磺醯基及2为1,2--二叠氮化物-5-磺醯基或-W-R5,其中W为n为1或2,Ra为H,-OH,-OY,-OZ,卤素或低级烷基,而至少有1个Ra基为-OY及至少一个为-OZ,Rb为H,烷基,芳基,取代烷基,或取代芳基;其中RB为H,或RC为H,-OH,-OY或-OZ,而至少有1个Rc基为-OY及至少有1个为-OZ;以及其中Rc为H,烷基,芳基,取代烷基,或取代芳基,Rd为-OH,-OY或-OZ,而其中至少有1个Rd基为-C-或-SO2-,以及R5为烷基,芳基,取代烷基或取代芳基;(ii)由以组合物固体部份重量计约75%至约99%重之酚醛清漆,及/或聚乙烯酚树脂;以及(iii)由以上述组合物固体部份重量计约0﹒5%至约20%重之交联化合物,该化合物在步骤(d)所使用之加热条件下,当所述二叠氮化物暴露于光化射线时,所生酸之量及强度可使上述树脂交联;以及(iv)足够量之溶剂以溶解上述组合物成份;以及(b)将上述第1种组合物涂盖于适当基质上;以及(c)在约20℃至约100℃之温度下加热处理上述涂盖基质至溶剂乾燥而不黏为止,以及(d)以足够之光化射线对上述组合物进行完全之非影像曝光并提供足够热量使上述组合物部份交联而仍实质上保有其光敏度;以及(e)以包含邻-二叠氮化物,酚醛清漆及/或聚乙烯酚树脂之第二种光敏组合物涂盖于上述第1种光敏组合物上,其中,上述第一种光敏组合物及第二种光敏组合物对不同波长之紫外光线会发生反应;以及(f)将第二种光敏组合物以光化射线进行影像曝光,并显影而形成影像光罩;以及(g)经由上述光罩,以光化射线对上述第1种光敏组合物进行曝光并显像以去除第一种光敏组合物之曝光部份。18﹒一种照像元件,其系根据申请专利范围第17项之制法制得。 |
