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l.一喷嘴组合用于一高压水喷注切削系统,其包括:一喷嘴壳架,其具有一入口以引入高压水,及一流出开口以作为水喷住之出口。孔型装置,藉由该高压水通过该孔,用以产生一高度瞄准的水喷注,该孔型装置被放在该壳架入口之下游内以导引流经该流出开口之水喷注;喷射流偏转装置,用以间歇地导引低压流体之流势于已瞄准之水喷注上以充分地将该水喷注偏离该流出开口;一冲击组成,其位于可被偏转水喷注冲击之位置并且至少部份地消散水喷注之能量;及排泄装置,用以排出从喷嘴壳架内偏转喷射流形成之水,2﹒申请专利范围第1项之喷嘴组合,其中该喷射流偏转装置包括:导管装置,其具有一流出端,以导引该低压流体于该瞄准的水喷注上,及一阻碍表面组成,可放置或适于交替地阻碍或不阻碍低压流从该导管流出。3. 中请专利范围第2项之喷嘴组合,其中该阻碍面组成包括一多数的流体调节孔,彼此由该组成之居间的流体阻碍面所分离,该组成被装设用来与导管.装置之流出端相对的移动以更替地瞄准该流体瞄准孔及流体阻碍面,以使喷嘴组合周期地产生一切削喷射流。4﹒申请专利范围第3项所述之喷嘴组合,其中该阻碍面组成通常是圆柱形而且通常以其轴被装设而旋转,该圆柱组成被制成是一包围该导管装置之流出端的,该等孔放射状地延伸并经过圆柱面轴向延伸之部份该导管装置之流出端被放在圆柱组成内,以相对于圆柱面流出该压座流体,因而使得该等连续孔口越过该导体装置之流出端之动作,允许该低压流体周期地使该水喷流偏向,及更包括通常以其轴旋转其阻碍面组成之装置。5﹒申请专利范围第4项所述之喷嘴组合,包括一齿轮耦接到该阻碍面组成用以与其旋转,而且以被马达装置驱动以产生阻碍面组成之旋转。6﹒申请专利范围第4项所述之喷嘴组合,其中该阻碍面组成是由铝型成。7﹒申请专利范围第4项所述之喷嘴组合,其中该阻碍面组成之轴向延伸、口型轴承而为0.020寸厚。8. 申请专利范围第1项所述之喷嘴组合,其中该低压流体为空气。9. 申请专利范围第8项所述之喷嘴组合,其中在该导管装置之流出端的该空气压力范围在50-100磅/寸之间。10﹒申请专利范围第1项所述之喷嘴组合,其中该冲击组成通常有一圆盘形表面设放于一轴上,该圆盘形表面通常以该轴装设以旋转并消散偏转喷射流作用在该表面之冲击。11﹒申请专利范围第l0项所述之喷嘴组合,其中该一般地回盘形表面,被尽可能地靠近该不偏转水喷注之通道设置,以期能够使喷射流偏转约1到2而造成该喷射流冲击到冲击组成上。12﹒申请专利范围第11项所述之喷嘴组合,其中该冲击组成包括一倾斜面用以接收该偏转喷射流,该倾斜而被定向成适于更能额外地使该喷射流偏向并导引其至该排泄装置。13﹒中请专利范围第10项述之喷嘴,包括空气驱动动叶轮装置,耦接到该冲击组成上并反应于低压压缩空气之运用以造成该冲击组成之旋转。14﹒申请专利范围第l项所述之喷嘴组合,其中该排放装置包括一具有与该流出开口相间隔的排放口之壳架面。15﹒申请专利范围第13项所述之喷嘴组合,其中该排放装置更包括提供部份真空到排放口以使从喷嘴壳架消散之偏转喷射流之水释放出来。16﹒一水喷注切削系统用以切削一工作件中之孔线,并包括:一喷嘴壳架,其有一入口以引进高压水,及一流出开口以作为水喷注之出口;孔型装置,于该高压水经过该孔时产生一高度瞄准水喷注,该孔型装置是被放在该壳架入口之下游内以指引流经该流出开口之水喷注;喷射流偏转装置,用以间歇地导引该低压流体之流势指向已瞄准之水喷注以充分地将该水喷注偏离该流出开口;一冲击组成,其被设置以被偏转的水喷注冲击,并且至少部份地消散该水喷注之能量;排泄装置,用以排出该喷嘴壳架内之偏转喷射流形成之水;及用以相对于该工作件移动该喷嘴组合之装置,其中该水喷注是从该流出开口间歇地偏转。17﹒一种形成一高速水喷注之方法,包括之步骤为:从一在一喷射流喷嘴壳架中的高压液体形成一高黏性的切削喷射流;经由一在壳架内之流出开口放出该切削喷射流;及于该切削喷射流到达该喷嘴壳架之该流出开口之前以快速间歇地偏转喷射流。18﹒申请专利范围第17项所述之方法包括这麽一个步骤:于切削过程中排放从喷嘴壳架内之偏转喷射流形成而累积的水。19﹒申请专利范围第17项所述之方法包括这样的步骤:以一间歇地低压压缩流体喷射流偏转该瞄准的水喷注。20﹒申请专利范围第19项所述之方法包括间断地阻碍该低压流体喷射流于到达该已瞄准水喷注之前的步骤。21﹒申请专利范围第19项所述之方法,其中该流体为气体。22﹒申请专利范围第20项所述之方法包括这样的步骤:藉由移动位于水喷住及低压喷射流间的阻碍组成,间歇地阻碍该低压流体,使得在该阻碍组成形成之大多数气体通口间歇地允许该低压喷射流到达该水喷注。23﹒申请专利范围第17项所述之方法,其中该水喷注从其通道被偏转大约l到2。以错开该流出开口。24﹒申请专利范围第17项所述之方法包括这样的步骤:经由一非该壳架之流出开口之开口排出从该喷嘴壳架之偏转喷射流形成之水。25﹒申请专利范围第17项所述之方法包括这样的步骤:供给一半真空到该排放开口以释放从该喷嘴壳架消散偏转喷射流之水。26﹒申请专利范围第17项所述之方法包括这样的步骤:以一旋转的冲击组成截断该偏转喷射流以驱散该喷射流作用于该组成之表面的力。27﹒申请专利范围第25项所述之方法包括这檬的步骤:藉由导引的压缩流体流作用在-序列耦接到该冲击组成以旋转该组成之叶片旋转该冲击组成。图示简单说明:第1图是-前部份结构截面图。第2图是-图l所示子组合之透视图。第3图是-图1中壳架沿着绿3-3取得之片断侧视图。 |
