| 主权项 |
1﹒一种含二有机聚矽烷氧基之共聚(亚醯胺—醯胺)之制法,其包括在50℃至210℃之温度及有机溶剂或有机溶剂混合物之存在下,将下列反应物(i)(2i)及(3i)直接反应:—(i)下式之二异氰酸化物:—(2i)下式之三羰酸单酐:式中B示一三价苯基,—及(3i)下式之含二有机聚矽氧烷基之二异氰酸化物:式中:D示下式之二价基其中n=1,2或3;R9=R10=R11=氢原子或具1至3个碳原子之直链烷基;R1=R3=R5=R7=具1至3个碳原子之直链烷基;R2=R4=R6=R8=苯基;且x+y落于0至100范围内;—反应物(i)与(2i)之相对比例经选择至使比例r:酐(2i)莫耳数/二异氰酸化物(i)莫耳数落于由1﹒01/1至3/1之范围中;且—反应物(3i)之比例经选择至使比例矽氧烷二异氰酸化物(3i)莫耳数/(酐(2i)莫耳数—二异氰酸化物(i)莫耳数)等于1。2﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中式(Ⅱ)之三羧酸单酐(2i)为苯偏三酸之单酐。3﹒根据申请专利范围第1或2项之制法,其中x+y落于4至70之范围中。4﹒根据申请专利范围第1或2项之制法,其中起始反应物(i)、(2i)及(3i)一起使用,且在由20℃至30℃之温度下溶于有机溶剂或有机溶剂之混合物中,然后在大气压下,将所得溶液温度直接或逐步地升至在50℃与210℃间之所需反应温度。5﹒根据申请专利范围第1或2项之制法,其中所用之有机溶剂为N,N—二甲基乙醯胺、N,N—二甲基甲醯胺、N—甲基—2—咯烷酮、二甲亚、1,1,3,3—四甲基、1,3—二甲基、1,3—二甲基—2—咪唑烷酮、1,3—二甲基—3,4,5,6—四氢—2—嘧啶酮、或二或多种此类溶剂之混合物。 |
