发明名称 烷基芳香族碳氢化合物脱氢反应触媒及其制造方法
摘要 为了增加在蒸汽存在下烷基芳香族碳氢化合物脱氢反应所使用氧化铁一氧化钾系统触媒的效能,在此提供一烷基芳香族碳氢化合物脱氢反应触媒,在该触媒中利用混合或揉合的方法或利用在制造氧化铁-氧化钾系统触媒中先加于氧化铁的方式加入些许氧化钛,以供使用于蒸汽存在下烷基芳香族碳氢化合物脱氢反应。氧化铁一氢化钾系统触媒可含有些许量的氧化钛,而使活性显着地增加,并且于相同转化率下对于烷基芳香族碳氢化合物脱氢反应的选择性亦得到改善,更且所得的触媒在反应中随时间表现稳定的效能。
申请公布号 TW201706 申请公布日期 1993.03.11
申请号 TW081101590 申请日期 1992.03.02
申请人 日产吉德勒触媒股份有限公司 发明人 大田正喜;寺田雅幸;村上彰;运永秀美
分类号 B01J23/78 主分类号 B01J23/78
代理机构 代理人 江安国 台北巿复兴北路二八八号八楼之一
主权项 1﹒一种含有氧化铁、氧化钾和氧化钛之重要成分的烷基芳香族碳氢化合物的脱氢反应触媒,其所有触媒成分皆当作氧化物来计算,其中氧化铁之含量为40﹒0至90﹒0WT%、氧化钾之含量为5﹒0至30﹒0wt%,而氧化钛之含量为0﹒005至0﹒95wt%。2﹒如申请专利范围第1项所述之触媒,其中含有氧化铈、氧化铝与氧化镁作为促进剂成分,其所有触媒成分皆当作氧化物来计算,氧化铈之含量为2﹒0至20﹒0wt%、氧化钼之含量为1﹒0至10﹒0wt%,而氧化镁之含量为1﹒0至10﹒0wt%。3﹒如申请专利范围第1项所述之触媒,其中含有氧化铈、氧化铝与氧化镁作为促进剂成分,其所有触媒成分皆当作氧化物来计算,氧化铈之含量为4﹒0至6﹒0wt%,氧化铝之含量为2﹒0至4﹒0wt%,而氧化镁之含量为1﹒5至4﹒0wt%。4﹒如申请专利范围第1项所述之触媒,其中含有氧化铬作为促进剂成分,其所有触媒成分皆当作氧化物来计算,氧化铬之含量为1﹒0至5﹒0wt%。5﹒如申请专利范围第1项所述之触媒,其中含有氧化铬作为促进剂成分,其所有触媒成分皆当作氧化物来计算,氧化铬之含量为2﹒0至4﹒0wt%。6﹒如申请专利范围第1项所述之触媒,其中烷基芳香族碳氢化合物为乙基苯、二乙基苯或异丙基苯。7﹒一种制备如申请专利范围第1项触媒之方法,该法特征为,触媒成分之氧化物和/或触媒成分氧化物之先驱化合物接受润湿混合与揉合,然后压出成型,接着进行乾燥与煆烧,其乾燥温度为80-200℃,时间为0﹒1-24小时,煆烧温度为400-1000℃,时间为0﹒2-12小时。
地址 日本