CLEANING BLADE METHOD FOR MANUFACTURING CLEANING BLADE PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC APPARATUS

摘要

본 발명은 클리닝되는 부재와 접촉하는 클리닝 블레이드의 접촉부의 표면이 10 mgf/μ㎡ 이상 400 mgf/μ㎡ 이하의 영률 (Y)을 갖고, 접촉부의 표면에서 50 ㎛ 이격된 클리닝 블레이드의 내부의 영률 (Y) 대 상기 영률 (Y)의 비 (Y/Y)가 0.5 이하이고, 상기 표면으로부터 표면에서 20 ㎛ 이격된 클리닝 블레이드의 내부까지의 영률의 평균 변화율이 표면에서 20 ㎛ 이격된 클리닝 블레이드의 내부로부터 표면에서 50 ㎛ 이격된 클리닝 블레이드의 내부까지의 영률의 평균 변화율보다 크거나 같은 우레탄 고무 클리닝 블레이드에 관한 것이다.