发明名称 两件式密封盖
摘要 提供用于化粧品,盥洗用品及类似产品之具有包含一合叶式盖之储物基置之一种封盖.合叶式盖包括一环形壁及与环形壁成直交之一隔片,因而形成容纳不同彩色、纹理及形状之装饰嵌件之一对向上方凹槽。
申请公布号 TW219920 申请公布日期 1994.02.01
申请号 TW081103893 申请日期 1992.05.19
申请人 史勒库洛杰公司 发明人 理查.D.洛哈姆;杰尼.多曲;菲力浦.飞伯
分类号 B65D41/00 主分类号 B65D41/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒一种封盖包括:具有与一容器之口接合之基盖;通至容器口之一配送孔;防止流动通过配送孔之装置,其包含具有上下边之平面部分,及位于平面部份下边之塞部份以啮合该孔;及摆动防止装置脱离孔而容许流动通过之合叶式装置;其特征在于在平面部份上方部份设有接合装置;一嵌件配合接合装置且异于基盖而提供美观特点,该嵌件包含接合平面部第一凹槽之向下延伸突缘。2﹒根据申请专利范围第1项之封盖,其中防止装置包括在开启位置与闭合位置间摆动之一系留盖,系留盖包括其内部具有平面部份之环形壁,平面部份与环形壁垂直而形成在平面部份上方之第一凹槽,及接合装置包括平面部份上方之第一凹槽。3﹒根据申请专利范围第2项之封盖,其中塞部份包括自系留盖之平面部份向下延伸之一阳元件,当系留盖处于闭合位置时,阳元件与配送孔成摩摩接合。4﹒根据申请专利范围第3项之封盖,其中合叶式装置包括基盖与系留盖间之一铰链条。5﹒根据申请专利范围第4项之封盖,其中铰链条包括一弹性条。6﹒根据申请专利范围第3项之封盖,其中第二凹槽在平面部份下方形成于系留盖中,当接留盖处于闭合位置时,第二凹槽对向基盖。7﹒根据申请专利范围第1项之封盖,其中各向下延伸突缘包括与第一凹槽接合之水平延伸肋条。8﹒根据申请专利范围第7项之封盖,其中嵌件包括一向下延伸周边唇而形成至基盖之较顺利过渡。9﹒根据申请专利范围第1项之封盖,其中嵌件以各种不同彩色提供。10﹒根据申请专利范围第1项之封盖,其中嵌件为各种不同形状。11﹒根据申请专利范围第3项之封盖,其中嵌件包括适于用作构买凭证之一可取除圆片。12﹒根据申请专利范围第3项之封盖,其中可取除圆片藉多个桥连条而回着于件。13﹒根据申请专利范围第1项之封盖,其中嵌件为异于基盖之各种彩色。14﹒根据申请专利范围第1项之封盖,其中嵌件为异于基盖之各种纹理。15﹒根据申请专利范围第1项之封盖,其中嵌件为各种不同形状。图示简单说明:图 1为包括基盖及装饰嵌件之二件式盖之部份断面透视图。图2为二件式盖之顶部平面图。图3为沿图2之线3一3之二件式封盖之断面图。图4为包括购买凭证特点之二件式封盖之顶部平面图。图5为沿图4之线5一5之二件式封盖之装饰嵌件之断面图。图6为沿图4之线6一6之二件式封盖之装饰嵌件之断面图。图7一10为装饰嵌件与二件式封盖间之替代性接合方式之断面图。
地址 美国