| 主权项 |
1.一种制备光记录媒质用之基片的方法,其包括控制一具有一预先形成格式图案于其周边表面上之滚筒压模与一以一预定的介于模制滚筒与滚筒压模之间的间隙被设置而使它们具有一预定温度之滚筒压模;由一器具馈送一被加热至一预定温度之热塑性树脂至间隙,以于滚筒压模与模制滚筒被旋转于一预定旋转频率上时挤出之设置于间隙之上游侧之热塑性树脂;其后将热塑性树脂藉由压入树脂于滚筒压模与模制滚筒之间以模制成一薄片遂而移转预先成形格式图案至树脂上等步骤,前述方法之特征在于:模制系于模制条件被调节的情况下被执行因而使连续量测的基片之间隙温度可于一预定的幅量内呈周期性地变动且亦可使幅量会符合一对应一需求的供光记录媒质用的基片之移转精确度与双折射値的一幅量之先前设定値。2.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述模制条件为一介于滚筒压模与模制滚筒之间的尺寸。3.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述模制条件为一滚筒压模与模制滚筒的旋转速度。4.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述模制条件为热塑性树脂馈送至间隙之速率。5.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述热塑性树脂为一聚碳化合物。6.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述滚筒压模系使用一预先成形格式图案被直接地形成于一滚筒基体的周边表面上之滚筒压模。7.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述滚筒压模系使用一压模被固定式地围绕于一滚筒基体的周边表面周围之滚筒压模。8.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述滚筒压模系使用一压模经由一绝热层被固定式地围绕于一滚筒基体的周边表面周围之滚筒压模。9.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述预定时间为在基片经过间隙之后即刻的用于光记录媒质之基片的间隙温度所指示出之具有某一幅量的周期性变动之一个周期或多个周期之时间。10.如申请专利范围第9项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述预定时间为一滚筒压模旋转一圈所需的时间。11.如申请专利范围第1项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述光媒质为一光卡。12.一种制备一用于一光记录媒质之基片的方法,其包含控制一具有一预先形成格式图案于其周边表面上之滚筒压模与一以一预定的介于模制滚筒与滚筒压模之间的间隙被设置而使它们具有一预定温度之滚筒压模;由一器具馈送一加热至一预定温度之热塑性树脂至间隙以于滚筒压模与模制滚筒被旋转于一预定旋转频率上时挤出设置于间隙之上游侧之热塑性树脂;其后将热塑性树脂藉由压入树脂于滚筒压模与模制滚筒之间以模制成一薄片遂而移转预先形成格式图案至树脂上等步骤,前述方法之特征包含一在通过间隙之后立即连续式地量测基片温度之步骤,于一预定时间内计算温度量测値之变动幅量之一步骤,以及一控制模制条件以致使该幅量可符合对应至一用于光记录媒质之基片之所需的移转精确度与一双折射之先前的设定値之步骤。13.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述被控制的模制条件为一介于滚筒压模与模制滚筒之间的间隙之尺寸。14.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述被控制的模制条件为一滚筒压模与模制滚筒之旋转速度。15.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中被控制的模制条件为一热塑性树脂馈送至间隙的速率。16.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中热塑性树脂为一聚碳化合物。17.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述滚筒压模系使用一预先形成格式图案被直接形成于一滚筒基体的周边表面的滚筒压模。18.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述滚筒压模系使用一压模被固定式地围绕于滚筒基体之周边表面周围的滚筒压模。19.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述滚筒压模系使用一压模为经由一绝热层而被固定式地围绕于一滚筒基体之周边表面周围之滚筒压模。20.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述预定时间为具有在基片通过间隙之后立即由用于光记录媒质之基片的间隙温度所指示出的某一幅量的周期性变动之一周期或更多的时间。21.如申请专利范围第20项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述预定时间为一滚筒压模旋转一圈所需的时间。22.如申请专利范围第12项中所述之模制一用于光记录媒质之基片的方法,其中前述光媒质为一光卡。23.一种制备一用于一光记录媒质之基片的装置,其包含一挤出一热塑性树脂之器具;一具有一预先形成格式图案于其周边表面上且可控制而具有一预定温度,且可在一预定的旋转频率下旋转之滚筒压模;以及一与滚筒压模一齐动作而用以压制所挤出的树脂以移转滚筒压模表面上的预先形成格式图案至树脂上遂而模制出用于光记录媒质的基片之模制滚筒,此模制滚筒被设置成能够以一预定的介于其本身与滚筒压模之间的间隙面对滚筒压模,且其可被控制成具有一预定的表面温度,且其可被转动于一预定的旋转频率;前述装置之特征在于具有一能够在基片通过间隙之后立即可连续式地量测基片的温度之量测器具,以及一具有下列部份之控制器具;一用于在一预定时间内计算一所量测得之温度値之变动幅量的计算部份;一用于对应一需求的用于光记录媒质之基片的移转精确度与双折射率而于先前设定一幅量値之设定部份;一用于比较在计算部份中所获得的幅量与在设定部份中所设定的値以计算出一偏差的比较部份;以及一用于依据在比较部份所获取的偏差程度控制模制条件以消除该偏差之控制部份。24.如申请专利范围第23项中所述之制备一用于一光记录媒质的基片之装置,其中前述预定时间为在基片通过间隙之后立即由用于光记录媒质之基片的间隙温度所指示出之具有某一幅量的周期性变动之一个周期或更长的时间。25.如申请专利范围第24项中所述之制备一用于一光记录媒质之基片的装置,其中前述预定时间为一滚筒压模旋转一圈所需的时间。第1图为一准备性本发明之一光记录媒质的基片之一装置具体化实施例的剖面图;第2图为一准备供显示于第1图中之光记录媒质用之基片的装置之侧视图;第3图为准备供显示于第1图中之光记录媒质用之基片的装置之平面图;第4图为准备供本发明之光记录媒质用之基片的装置之一控制器具的控制方块图;第5图系一显示可被用于本发明中之模具的另一组成之剖面图;第6图系一显示在一准备本发明之光记录媒质的基片之方法中模制条件的控制程序之流程图;第7图系一有关准备本发明之光记录媒质的基片之装置的控制器具之另一个具体化实施例的控制方块图;第8图系一依然有关准备本发明之光记录媒质的基片之装置的控制器具之另一个具体化实施例的控制方块图;第9图系一解说具有一固定幅量且指示出供光记录媒质之基片的间隙温度的周期性变动的图式。 |
