| 主权项 |
1. 一种显示面的制造方法,其特征系具备含有:基板上涂布含第1颜料粒子的溶液,经乾燥形成第1颜料层的步骤;将此第1颜料层曝光成图形状,经显像形成第1颜料图形的步骤;在前述基板及第1颜料图形上涂布含第1颜料粒子的溶液,经显像形成颜料层的步骤;及清洗除去前述第2颜料层中第1颜料图形上的部分,形成第2颜料图形的步骤的第1及第2颜料图形所构成的滤色器图形。由至少含第1颜料粒子的溶液或含第2颜料粒子的溶液其中之一含有附着力调整剂之前述第1及第2颜料图形所构成的滤色器图形。2. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中该基板的全面形成氧化矽或胺基矽烷的膜。3. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中附着力调整剂系一种选自微粒子氧化矽,Li-Si,及微粒子氧化铝所成群。4. 如申请专利范围第3项之显示面的制造方法,其中该微粒子氧化矽及微粒子氧化铝的粒径为0.1(以下。5.如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中该附着力调整剂在溶液中含有10-60重量%。6. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中含第1颜料粒子的溶液含有光敏性树脂。7. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,形成第1颜料层之前,尚具备该基板上形成光吸收图形的步骤。8. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中含第1颜料粒子的溶液及含第2颜料粒子的溶液含有分散剂。9. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中该基板的全面形成胺基矽烷膜,含第1颜料粒子的溶液不含附着力调整剂,含第2颜料粒子的溶液含有微粒子氧化矽。10. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中该基板全面形成氧化矽膜,含第1颜料粒子的溶液及含第2颜料粒子的溶液含有Li-Si或微粒子氧化铝。11. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中含第1颜料粒子的溶液不含附着力调整剂,含第2颜料粒子的溶液含有Li-Si或微粒子氧化铝。12. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,其中含有第1颜料粒子的溶液及含第2颜料粒子的溶液中的颜料浓度为1重量%-50重量%。13. 如申请专利范围第1项之显示面的制造方法,系于第2颜料图形形成后,尚具有分别与第1颜料图形及第2颜料图形对应的位置上形成第1及第2萤光体图形的步骤。图示简单说明:图1系表示本发明之一实施例的滤色器图形形成步骤的断面图;及 |
