发明名称 METHODS FOR DEPOSITING LAYERS HAVING REDUCED INTERFACIAL CONTAMINATION
摘要 감소된 계면 오염을 갖는 층들을 증착하는 방법이 설명되었다. 본 발명의 방법은 바람직하게, 증착된 층들 사이, 예를 들어 증착된 층과 하부 층 또는 필름 사이의 계면에서 오염을 감소시킬 수 있다. 몇몇 실시예에서, 층을 증착시키는 방법은 환원 분위기에서 증착된 제 1 층을 갖는 실리콘 함유 층을 어닐링하는 단계, 어닐링 이후에 상기 실리콘 함유 층을 노출시키기 위해 에칭 처리공정을 사용하여 상기 제 1 층을 제거하는 단계, 및 노출된 상기 실리콘 함유 층 상에 제 2 층을 증착하는 단계를 포함할 수 있다.
申请公布号 KR20160124911(A) 申请公布日期 2016.10.28
申请号 KR20167028515 申请日期 2010.03.04
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 VATUS JEAN R.;TANG, JIN SONG;KIM, YI HWAN;KUPPURAO SATHEESH;SANCHEZ ERROL
分类号 H01L21/02;C23C16/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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