| 主权项 |
1.一种藉由混合二反应物而可选择改变一储存材料温度之容器,其包含:一概呈管状之一体成型式容器主体,其具有一用于容装该储存材料之材料凹穴及一用于容装一第一反应物之反应凹穴,该反应凹穴具有一设于该容器第一端处之开口;一盖件,系设于该容器主体第一端处之开口中,该盖件具有一盖件体、一与该盖件体一体成型之挠性件、及一与该盖件体一体成型之长形件,该挠性件具有一内表面及一外表面,该内表面上之至少一点系依据一施加于该挠性件外表面上之轴向力,而在一收缩位置与一伸展位置之间对该容器主体做至少局部呈轴向之移动,该长形件包含具有纵向刻槽之中空叉件并具有一设于该点处之近端及一自该点伸出之远端;一可破裂之挡片,系附接于该盖件之一开口端,用于将一第二反应物固定于该盖件内,当该内表面上之该点系在该伸展位置时,该长形件之该远端即伸出该盖件之该开口端以外;及一可卸除之封闭件,系设于该容器主体之一第二端处,用于提供通往该材料凹穴中之该储存材料。2.根据申请专利范围第1项之容器,其中该反应凹穴系至少局部由一皱褶壁所界定。3.根据申请专利范围第1项之容器,其中该挠性件系一碟片,且当该内表面上之该点在其收缩位置时,碟片即具有一凹形内表面及一凸形外表面。4.一种藉由混合二反应物而可选择改变一储存材料温度之容器,其包含:一概呈管状之容器主体,其具有一用于容装该储存材料之材料凹穴及一用于容装一第一反应物之反应凹穴,该反应凹穴具有一设于该容器第一端处之开口;及一盖件,系设于该容器主体第一端处之开口中,该盖件具有一盖件体、一挠性件、及一长形件,该盖件具有多数之气孔槽道,系沿该盖件体之一外表面呈纵向延伸,而该外表面系相邻于由该反应凹穴界定之该容器主体之一壁,该挠性件具有一内表面及一外表面,该内表面上之至少一点系依据一施加于该挠性件外表面上之轴向力,而在一收缩位置与一伸展位置之间对该容器主体做至少局部呈轴向之移动,该长形件具有一设于该点处之近端及一自该点伸出之远端;一可破裂之挡片,系附接于该盖件之一开口端,用于将第二反应物固定于该盖件内,当该内表面上之该点系在该伸展位置时,该长形件之该远端即伸出该盖件之该开口端以外;及一可卸除之封闭件,系设于该容器主体之一第二端处,用于提供通往该材料凹穴中之该储存材料。5.根据申请专利范围第4项之容器,其中该盖件具有至少大约8条气孔槽道。6.根据申请专利范围第4项之容器,其中各气孔槽道备有大约界于0.0002与0.001平方寸之间之截面积。7.根据申请专利范围第4项之容器,其中该盖件具有一突缘,且该气孔槽道系沿该盖件体之该外表面呈纵向延伸至该突缘,及沿该突缘之一第一表面持续呈径向延伸。8.根据申请专利范围第7项之容器,其中该突缘之该第一表面系对该盖件体之该外表面呈一锐角。9.根据申请专利范围第7项之容器,其中该突缘具有一设于该突缘之该第一表面与该突缘之一第二表面之间之筒形壁,且该气孔槽道沿该筒形壁而自该突缘之该第一表面持续纵向延伸。10.一种藉由混合二反应物而可选择改变一储存材料温度之容器,其包含:一概呈管状一体成形之容器主体,其具有一用于容装该储存材料之材料凹穴及一用于容装一第一反应物之反应凹穴,该反应凹穴具有一设于该容器第一端处之开口,而该反应凹穴系至少局部由一皱褶壁所界定;及一盖件,系设于该容器主体第一端处之开口中,该盖件具有一盖件体、一与该盖件体一体成型之挠性件、及一与该盖件体一体成型之长形件,该挠性件具有一内表面及一外表面,该内表面上之至少一点系依据一施加于该挠性件外表面上之轴向力,而在一收缩位置与一伸展位置之间对该容器主体做至少局部呈轴向之移动,该长形件具有一设于该点处之近端及一自该点伸出之远端;一可破裂之挡片,系附接于该盖件之一开口端,用于将一第二反应物固定于该盖件内,当该内表面上之该点系在该伸展位置时,该长形件之该远端即伸出该盖件之该开口端以外;及一可卸除之封闭件,系设于该容器主体之一第二端处,用于提供通往该材料凹穴中之该储存材料。11.根据申请专利范围第10项之容器,其中该长形件系一中空且概呈筒状之叉件。12.根据申请专利范围第11项之容器,其中该叉件具有一长形刻槽,系自其远端呈轴向延伸。13.根据申请专利范围第10项之容器,其中该挠性件系一碟片,且当该内表面上之该点在其收缩位置时,碟片即具有一凹形内表面及一凸形外表面。14.根据申请专利范围第10项之容器,其中该盖件具有多数之气孔槽道,系沿该盖件体之一外表面呈纵向延伸,而该外表面系相邻于由该反应凹穴界定之该容器主体之一壁。15.根据申请专利范围第14项之容器,其中该盖件具有至少大约15条气孔槽道。16.根据申请专利范围第14项之容器,其中各气孔槽道备有大约界于0.0002与0.001平方寸之间之截面积。17.根据申请专利范围第14项之容器,其中该盖件具有一突缘,且该气孔槽道系沿该盖件体之该外表面呈纵向延伸至该突缘,及沿该突缘之一第一表面持续呈径向延伸。18.根据申请专利范围第17项之容器,其中该突缘之该第一表面系对该盖件体之该外表面呈一锐角。19.根据申请专利范围第17项之容器,其中该突缘具有一设于该突缘之该第一表面与该突缘之一第二表面之间之筒形壁,且该气孔槽道沿该筒形壁而自该突缘之该第一表面持续纵向延伸。20.一种用于可选择地混合二反应物之容器,其包含:一容器,具有一容器开口,该容器用于留置一第一反应物;一盖件,系设于该容器开口中,该盖件具有一盖件体、一与该盖件体一体成型之挠性件、及一与该盖件体一体成型之长形件,该盖件体具有多数之气孔槽道,系沿该盖件体之一外表面呈纵向延伸,而该外表面相邻于该容器之一壁,该挠性件具有一内表面及一外表面,该内表面上之至少一点系依据一施加于该挠性件外表面上之轴向力,而在一收缩位置与一伸展位置之间对该容器主体做至少局部呈轴向之移动,该长形件具有一设于该点处之近端及一自该点伸出之远端;及一可破裂之挡片,系附接于该盖件之一开口端,用于将一第二反应物固定于该盖件内,当该内表面上之该点系在该伸展位置时,该长形件之该远端即伸出该盖件之该开口端以外。21.根据申请专利范围第20项之容器,其中该盖件具有至少大约15条气孔槽道。22.根据申请专利范围第20项之容器,其中各气孔槽道备有一不超过大约界于0.0002与0.001平方寸之间之截面积。23.根据申请专利范围第20项之容器,其中该盖件具有一突缘,且该气孔槽道系沿该盖件体之该外表面呈纵向延伸至该突缘,及沿该突缘之一第一表面持续呈径向延伸。24.根据申请专利范围第23项之容器,其中该突缘之该第一表面系对该盖件体之该外表面呈一锐角。25.根据申请专利范围第23项之容器,其中该突缘具有一设于该突缘之该第一表面与该突缘之一第二表面之间之筒形壁,且该气孔槽道沿该筒形壁而自该突缘之该第一表面持续呈纵向延伸。图示简单说明:第一图系容器之局部截断侧视图;第二图系容器之平面图;第三图系沿第一图之3-3线所取之截面图;第四图系沿第一图之4-4线所取之截面图;第五图系类似于第一图之放大图,揭示容器之致动情形;第六图系第一-五图所示容器之局部立体图;第七图系类似于第五图之放大图,揭示模组盖件之另一变换结构;第八图类似于第一图,揭示另一变换之容器;第九图系容器主体本身之截面图;第十图系盖件之顶面图;第十一图系沿第十图之11-11线所取之截面图;及第十二图系容器底端之立体图,且封闭件开启而曝现出致动碟片。 |
