| 主权项 |
1.一种将基板以搬送臂机构陆续地在多数的处理室进出,把基板陆续地处理之光阻剂处理方法,其特征为,(a)把具有已对处理室对位的基准领域之基板搬入处理室由,将该基板在以排泄杯把周围包围的自旋夹头上实质地保持成水平,(b)开始把基板旋转,在旋转中的基板浇上处理液处理,(c)停止供给处理液,同时使基板停止旋转,(d)把停止时的基板之基准领域在水平面内的位置在自旋夹头上检出,(e)把在前述工程(d)检出的基板之基准领域的位置,和把基板搬入处理室内时的初始之基板的基准领域之位置比较,使两会一致地把基板和自旋夹头一齐旋转,(f)在以前述工程(d)检出的基板之基准领域的位置,和把基板搬入处理室内的基板之基准领域的位置一致后,把基板从处理室搬出者。2.如申请专利范围第1项的光阻剂处理方法,其中,在从上述工程(b)至工程(d)之间,把基板的旋转数及旋转角度中至少一方依次检出。3.如申请专利范围第1项的光阻剂处理方法,其中,在上述工程(b),将把光阻剂液涂布在基板。4.如申请专利范围第1项的光阻剂处理方法,其中,在上述工程(b),将把显影液浇在基板之涂布光阻剂。5.如申请专利范围第1项的光阻剂处理方法,其中,基板为具有做为基准领域的方位边缘之半导体晶片。6.如申请专利范围第1项的光阻剂处理方法,其中,基板为具有做为基准领域的缺口之半导体晶片。7.如申请专利范围第1项的光阻剂处理方法,其中,并且在上述工程(f)之后,(g)在自旋夹头上安装具有基准领域之洗净夹具,(h)使洗净夹具旋转,同时把溶剂供给洗净夹具,使从洗净夹具离心分离的溶剂冲突在排泄杯之内面,从排泄杯的内面把附着物溶解去除,(i)使溶剂的供给停止,同时使洗净夹具停止旋转,(j)把停止时的洗净夹具之基准领域的位置在自旋夹头上检出,(k)把在前述工程(j)检出的洗净夹具之基准领域的位置,和将洗净夹具搬入处理室内时之初始的洗净夹具之基准领域的位置比较,使两者会一致地把洗净夹具和自旋夹头一齐旋转,(l)在前述工程(j)检出的洗净夹具之基准领域的位置,和将洗净夹具搬入处理室内时之洗净夹具的基准领域之位置一致后,把洗净夹具从处理室搬出。8.一种光阻剂处理装置,其特征为,具备有:室,和具有把在该室内具有基准领域的基板保持之基准领域的自旋夹头,和使该自旋夹头旋转之旋转装置,和把处理液供给前述自旋夹头上的基板之喷嘴,和设成如包围前述自旋夹头及基板的排泄杯,和对前述室把基板从一室之方向搬出入的搬送臂机构,及使由前述搬送臂机构将基板搬入前述室时的基板之在水平面内的基准领域之位置,会和把基板从前述室搬出时之在水平面内的基准领域之位置一致地控制前述旋转装置的动作之控制装置。9.如申请专利范围第8项的光阻剂处理装置,其中,更且,具有检出使旋转停止时的基板之基准领域或自旋夹头的基准领域之检出装置,前述控制装置将由从该检出装置的检出资讯控制前述旋转装置之动作。10.一种光阻剂处理装置,其特征为,具备:室,和在该内将基板保持,而具有基准领域的自旋夹头,和使该自旋夹头旋转之旋转装置,和设成如包围前述自旋夹头的排泄杯,和保持在前述自旋夹头,具有基准领域之洗净夹具,和对前述室把基板或前述洗净夹具从一定方向搬出入的搬送臂机构,和在前述自旋夹头上之基板把光阻剂液供给的第1喷嘴,和在前述自旋夹头上之洗净夹具供给溶剂的第2喷嘴,和检出前述洗净夹具之基准领域或自旋夹头的基准领域之检出装置,及根据从前述检出装置的检出资讯,使由前述搬送臂机构把洗净夹具搬入前述室内时的初始基准领域之位置,会和洗净夹具从前述室搬出时的基准领域位置一致地控制前述旋转装置的动作之控制装置。11.如申请专利范围第10项的光阻剂处理装置,其中,上述洗净夹具系设在上述室之外方,由上述搬送臂机构把上述洗净夹具搬送至上述室。12.如申请专利范围第10项的光阻剂处理装置,其中,上述第1喷嘴系从比自旋夹头的载置面上方将光阻剂液供给,而上述第2喷嘴系从比自旋夹头的载置面下方把溶剂供给。图式简单说明:第一图,系显示光阻剂处理系统之平面图。第二图,系显示光阻剂处理系统之侧视图。第三图,系显示光阻剂处理系统之背面图。第四图,系显示光阻剂处理装置(光阻剂涂布单元)之断面图。第五图,系显示其他光阻剂处理装置(光阻剂涂布单元)之断面图。第六图,系显示一连串的光阻剂处理工程之流程表。第七图,系显示晶片的对位方法之流程表。第八图,系显示从洗净夹具座将洗净夹具搬送时的状态之斜视图。第九图,系显示具有洗净夹具座的冷激板单元之侧视图。第十图,系显示光阻剂涂布单元的把杯洗净之方法的流程表。第十一图,系把自旋夹头从下方观察而显示之平面图。第十二图,系具有方位边缘的晶片之对位说明图。第十三图,系具有凹口的晶片之对位说明图。 |
