发明名称 沉积环之反旋转装置
摘要 用以限制一沈积环相对一基质支持物旋转的装置,详而言之,该沈积环系可旋转地固定在该基质支持物上,在该装置之第一实施例中,一反旋转销系固定在一环绕一基质支持物,如一静电夹盘四周的沈积环上。一反旋转托架之第一端与该基质支持物连接,一第二端与该反旋转销结合,因此,该沈积环具有某种程度之自由度以便调整该沈积环与该基质支持物的热膨胀,但是,该沈积环藉由该反旋转销与托架之交互作用而被防止旋转到该沈积环与该基质支持物卡住的位置处。在该装置之另一实施例中,一反旋转销或凸块系形成在该沈积环之下侧上,一配合缺口系形成在由该基质支持物延伸出来并且支持该沈积环的一径向延伸、周边凸缘。该销与缺口交互作用以便限制该沈积环所能达到的旋转量。
申请公布号 TW366550 申请公布日期 1999.08.11
申请号 TW085105763 申请日期 1996.05.15
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 艾伦.夫列尼根
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼;康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼号七楼
主权项 1.一种用以限制一沈积环相对该沈积环所环绕之一基质支持物旋转的装置,该装置包含:一销,其与该沈积环连接;以及一托架,其与该基质支持物连接,并且与该结合点提供装置结合。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该托架之一第一端与该基质支持物连接,并且在一第二端具有一与该结合点提供装置嵌合的叉部。3.一种用以限制一沈积环相对该沈积环所环绕之一基质支持物旋转的装置,该装置包含:一销,其与该沈积环连接;以及一缺口,其系形成在与该销结合的该基质支持物中。4.如申请专利范围第3项之装置,其中该缺口是一孔。5.如申请专利范围第4项之装置,其中该孔是位于该基质支持物之一径向延伸、周边凸缘上的一径向延伸孔,该凸缘支持该沈积环。6.一种用以限制一沈积环相对该沈积环所环绕之一基质支持物旋转的装置,该装置包含:一种装置,其与该沈积环连接,用以提供一结合点于该沈积环上;以及一种装置,其与该基质支持物连接并且与该结合点提供装置结合,用以将在该沈积环上的一点可旋转地固定在该基质支持物上。7.如申请专利范围第6项之装置,其中该结合点提供装置是一销。8.如申请专利范围第6项之装置,其中该用以可旋转地固定的装置包含一托架,其与该基质支持物连接,并且与该结合点提供装置结合。9.如申请专利范围第8项之装置,其中该托架之一第一端与该基质支持物连接,并且在一第二端具有一与该结合点提供装置嵌合的叉部。10.如申请专利范围第7项之装置,其中该用以可旋转地固定的装置包含一缺口,其系形成在与该销结合的该基质支持物中。11.如申请专利范围第10项之装置,其中该缺口是一孔。12.如申请专利范围第10项之装置,其中该孔是位于该基质支持物之一径向延伸、周边凸缘上的一径向延伸孔,该凸缘支持该沈积环。图式简单说明:第一图显示一用以限制一沈积环相对一基质支持物旋转之装置的顶平面图;第二图显示一沿着线2-2所取之第一图之装置的垂直截面图;以及第三图显示本发明之另一实施例的垂直截面图。
地址 美国
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