主权项 |
1.一种用以限制一沈积环相对该沈积环所环绕之一基质支持物旋转的装置,该装置包含:一销,其与该沈积环连接;以及一托架,其与该基质支持物连接,并且与该结合点提供装置结合。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该托架之一第一端与该基质支持物连接,并且在一第二端具有一与该结合点提供装置嵌合的叉部。3.一种用以限制一沈积环相对该沈积环所环绕之一基质支持物旋转的装置,该装置包含:一销,其与该沈积环连接;以及一缺口,其系形成在与该销结合的该基质支持物中。4.如申请专利范围第3项之装置,其中该缺口是一孔。5.如申请专利范围第4项之装置,其中该孔是位于该基质支持物之一径向延伸、周边凸缘上的一径向延伸孔,该凸缘支持该沈积环。6.一种用以限制一沈积环相对该沈积环所环绕之一基质支持物旋转的装置,该装置包含:一种装置,其与该沈积环连接,用以提供一结合点于该沈积环上;以及一种装置,其与该基质支持物连接并且与该结合点提供装置结合,用以将在该沈积环上的一点可旋转地固定在该基质支持物上。7.如申请专利范围第6项之装置,其中该结合点提供装置是一销。8.如申请专利范围第6项之装置,其中该用以可旋转地固定的装置包含一托架,其与该基质支持物连接,并且与该结合点提供装置结合。9.如申请专利范围第8项之装置,其中该托架之一第一端与该基质支持物连接,并且在一第二端具有一与该结合点提供装置嵌合的叉部。10.如申请专利范围第7项之装置,其中该用以可旋转地固定的装置包含一缺口,其系形成在与该销结合的该基质支持物中。11.如申请专利范围第10项之装置,其中该缺口是一孔。12.如申请专利范围第10项之装置,其中该孔是位于该基质支持物之一径向延伸、周边凸缘上的一径向延伸孔,该凸缘支持该沈积环。图式简单说明:第一图显示一用以限制一沈积环相对一基质支持物旋转之装置的顶平面图;第二图显示一沿着线2-2所取之第一图之装置的垂直截面图;以及第三图显示本发明之另一实施例的垂直截面图。 |