SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFATURING METHOD THEREOF

摘要

본 발명은 반도체 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 계단 형태로 적층된 도전막들을 포함하는 적층물과, 상기 적층물 상에 형성되고, 상기 도전막들을 노출시키는 균일한 깊이의 콘택홀들을 포함하는 제1 층간 절연막과, 상기 콘택홀들 내에 형성되고, 상기 도전막들과 각각 접하는 하부 콘택 플러그들, 및 상기 콘택 플러그들과 각각 연결되는 하부 콘택 패드들을 포함한다.