| 主权项 |
1.一种薄片型电子元件之清洗装置,系包括:一机台,容置各组件者:一洗净容器,枢连一封盖的设置该机台顶面,使一转盘转轴密封穿出该洗净容器底部,而转盘上外缘对称的设置数支持座者;一动力装置,固设在该机台内,其驱动轴连接该洗净容器的转盘转轴者;数料盘治具,其两侧同一轴线的各连设一枢持轴,使各滑扣于该洗净容器各支持座上,且透空的凹设数置料空间各合置限持薄片型电子元件的料盘,并使重心不平衡的向内斜下预设角度的悬置于该转盘上者;一洗净乾燥装置,含有一啧洗管,一除液喷气管,一乾燥喷气管,一静电喷气管等组成,使各管路对应该洗净容器内的各支持座枢扣的各料盘治具回转轨迹,设置于该洗净容器封盖底部,操作的连通清洗液和惰气,以洗净乾燥该各薄片型电子元件者;一操控装置,操控各组件的顺序动作,及各组件的动作时间和速度者。2.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该洗净容器的封盖系由一动力器枢接,以操作该封盖掀开或盖合该洗净容器的动作,或手动的操作该封盖连设的把手掀开或盖合的动作者。3.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该洗净容器的底部设置一排泄阀门,操作的以排除洗净后的污液和杂质者。4.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该洗净容器周壁上预定位置固设数测震器,使检测该转盘旋转中的震动値,操作的于发生共震,或震动超过设定値时停止驱转者。5.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该洗净容器转盘上对称设置的各支持座两撑壁上同一轴线各挖设一向下外斜的套合槽,使该各料盘治具的枢持轴跨置的滑扣于该套合槽内,整体均重的枢扣悬置在该转盘上者。6.如申请专利范围第1或4项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该各料盘治具两侧连设的枢持轴设有一环沟滑扣在该支持座的套合槽内者。7.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该洗净乾燥装置的喷洗管,系幅射状的穿设数喷水孔伸置于该洗净容器各支持座内缘的回转范围内正对该各料盘治具上限持的各薄片型电子元件料盘者。8.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该洗净乾燥装置的除液喷气管,系引伸其管口邻向该洗净容器封盖的底面,于清洗完成时喷入惰气吹除该封盖底面和洗净容器内壁面上残附的清洗液者。9.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该洗净装置的乾燥喷气管,设有数喷气口伸置于该洗净容器内各支持座内缘的回转范围内,且邻向各料盘治具喷流,及于该各喷气孔侧设置一挡风板,操作的引入惰气喷流乾燥者。10.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该洗净装置的静电喷气管,固设于该洗净容器内各支持座回转轨迹正上方的该洗净容器封盖底部,于该薄片型电子元件清洗乾燥后,引入带有静电的惰气浸渍者。11.如申请专利范围第1项所述的薄片型电子元件之清洗装置,其中该各料盘治具藉转盘回转速度的离心力以形成近似垂的状态承受清洗液的压力喷洗,或在该各料盘治具受离力心呈倾斜角变动的轨迹上设置一档块组挡止该各料盘治具预定的倾斜角度者。图式简单说明:第1图系习用薄片型电子元件的料盘外观示意图。第2图系本创作的正面组合剖示图。第3图系本创作的侧面组合剖示图。第4图系本创作的俯视组合剖示图。第5图系本创作的石英盛盘治具侧视剖示图。第6图系第5图的上视简单示意图。第7图系本创作清洗操作的简单示意图。第8图系本创作掀盖操作的简单示意图。 |
