具保护层系统之多层系统及制造方法

摘要

1. 多层系统及其制法。2.1 多层系统，如用于超紫外光波长范围的镜片，有着在空气中储存或长时间操作(即，在有某些水或氧部分分压的真空环境中暴于EUV射线下)污染或氧化的问题，此导致反射率严重降低的问题。根据本发明之多层系统的寿命长且高反射率稳定。2.2 根据本发明之多层系统具有钌、氧化铝、碳化矽、碳化钼、碳、氮化钛或二氧化钛制的保护层。根据本发明之多层系统藉直接、离子束生长的保护层制得，或者，除钌以外的情况中，系藉由使铝或钛和原子态的氧或氮混合，使用离子束，制得具离子束载体的最外保护层。2.3 根据本发明之多层系统不仅对于污染和氧化情况具有抗力，有需要时，亦可清洁且不会损失反射率。因为其寿命长及稳定的高反射率，所以它们特别适合用于温和X-射线范围或超紫外波长范围之半导体平版印刷术。3. 无附图

主权项

1.一种用于超紫外光波长范围之多层系统,其制自具不同折射系数或吸收系数的材料之交替层和保护层系统,其特征在于:保护层系统包含至少钌、至少氧化铝、至少碳化矽、至少氮化钛或至少二氧化钛。2.根据申请专利范围第1项之多层系统,其特征在于:保护层含括钌、氧化铝、碳化矽、氮化钛或二氧化钛。3.根据申请专利范围第1项之多层系统,其特征在于:保护层系统含括覆有钌的碳、覆有钌的碳化矽、覆有钌的碳化钼、覆有钌的氧化铝、覆有钌的氮化钛或覆有钌的二氧化钛。4.根据申请专利范围第1项之多层系统,其特征在于:保护层系统含括钌、氧化铝、碳化矽、氮化钛、二氧化钛和其他物质之混合物、合金或化合物。5.一种制造根据申请专利范围第1项之多层系统之方法,其特征在于:它们直接施用于多层系统的最外层及于其制造期间内以离子束制得一部分或全数。6.根据申请专利范围第5项之方法,其特征在于:一或多种惰性气体用于离子束。7.根据申请专利范围第5项之方法,其特征在于:所用离子束含Ar、Kr、氧、碳或氮。8.根据申请专利范围第5至7项中任何一项方法,其特征在于:保护层之一含括碳、钌、氮化矽、羰化矽、氮化钛、二氧化钛或氧化铝。9.根据申请专利范围第5至7项中任何一项方法,其特征在于:保护层系统含括藉离子束沉积的至少一个碳层。10.根据申请专利范围第9项之方法,其特征在于:保护用的碳层沉积之后,至少暴于EUV射线、暴于电子束,或者,暴于提高温度。11.根据申请专利范围第10项之方法,其特征在于:外露系于含氧的气体环境中进行。12.根据申请专利范围第5至7项中任何一项方法,其特征在于:保护层材料沉积为原子厚度,之后,藉由施以低能量氧或氮或碳离子,金属转化至氧化物或氮化物或碳化物状态。