用于超导体元件之压印微影法

摘要

本揭露之一态样系有关在一基材上来构建一超导体元件的方法，包含沈积一压印层于该基材的至少一部份上。该压印层会被压印来形成一压印部份与一非压印部份。一超导体层会被沈积在该压印层的至少一部份压印部份上。