发明名称 喷流飘浮式电镀槽
摘要 本创作系有关一种喷流飘浮式电镀槽,包含有:一用以承装镀液之槽体,系由二导板、二侧板及一底板所构成上方呈开口之狭长型体,可供一镀件置入,该导板外侧面设有阳极物件,且表面设成可供阳离子穿过之型态,其上方呈向外倾斜之导引面,且二导引面两侧形成镀液之溢液通道,另该底板设有镀液流出口;以及二喷流管,系分别设置在该二导引面上,其内侧设有多数之喷孔,由该喷孔向镀件及该槽体内喷射镀液;且该喷流管由各喷孔注入槽体之镀液,系大于槽体底板之流出口所流出之液量,俾保持一定高度之镀液于槽体内部;当超过预定高度时,则由两侧之溢流通道流入回收装置,经过滤后循环再使用,藉以增进电镀品质,且由于缩小镀槽之尺寸,故此在量产设备中大大减少占地面积。
申请公布号 TWM275213 申请公布日期 2005.09.11
申请号 TW093215976 申请日期 2004.10.08
申请人 官锦 发明人 官锦
分类号 C25D17/02 主分类号 C25D17/02
代理机构 代理人
主权项 1.一种喷流飘浮式电镀槽,包含有:一用以承装镀液之槽体,系由二导板、二侧板及一底板所构成上方呈开口之狭长型体,可供一镀件置入,该二导板外侧面设有二阳极物件,且导板表面设成可供阳离子穿过之型态,其上方呈向外倾斜之导引面,且二导引面两侧形成镀液之溢液通道,另该底板设有镀液流出口;以及二喷流管,系分别设置在该二导引面上,其内侧设有多数之喷孔,由该喷孔向镀件及该槽体内喷射镀液。2.如申请专利范围第1项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该槽体系呈上宽下窄之型体者。3.如申请专利范围第1项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该二导板上系依预定形状及方向设有多数分布之通孔,可供阳离子穿过。4.如申请专利范围第1项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该二导板包括由渗透性材质所构成,可供阳离子穿过。5.如申请专利范围第1项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该阳极物件上方接往整流机之正极者。6.如申请专利范围第5项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该阳极物件为可溶性。7.如申请专利范围第5项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该阳极物件为不可溶性。8.如申请专利范围第1项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该槽体系置于一回收装置内,该回收装置更包括一泵浦及一过滤器,将槽内之镀液送至该二喷流管,使镀液不断循环者。9.如申请专利范围第8项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该回收装置内系可容置一个以上并排之电镀槽体。10.如申请专利范围第1项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该喷流管由各喷孔注入槽体之镀液,系大于槽体底板之流出口所流出之液量,俾保持一定高度之镀液于槽体内部。11.如申请专利范围第1、8、9或10项所述之喷流飘浮式电镀槽,其中,该槽体内部之镀液超过预定高度时,系由槽体两侧之溢流通道流入该回收装置。图式简单说明:第一图系本创作之电镀槽体立体图。第二图系本创作之电镀槽剖示图,显示镀件正进入槽体。第三图系本创作之电镀槽剖示图,显示镀件己在槽体。第四图系第三图中4-4断面剖示图。第五图系本创作电镀槽体并排之示意图。
地址 桃园县中坜市荣民路421号