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发明名称
用于具有较低的层内电容之积体电路的线路结构
摘要
一种形成用于一积体电路之一线路结构的方法,该方包含形成复数个特征于一层介电质材料中,与形成间隙壁于该等特征之侧壁上。接着,形成导体于该等特征中,该等导体系籍由该等间隙壁与该等侧壁相隔开。之后,移除该等间隙壁,藉以在该等侧壁形成空气间隙,使得该等导体藉由该等空气间隙与该等侧壁相隔开。位于导体上方与下方之介电质层可以为低k值介电质,该低k值介电质具有小于该等导体之间的介电质之一介电常数。每一导体之一截面具有接触于该低k值介电质层之一底部、接触于另一低k值介电质之一顶部、及仅接触于该等空气间隙之一侧面。该等空气间隙系用以减低内层电容。
申请公布号
TW200539281
申请公布日期
2005.12.01
申请号
TW094110922
申请日期
2005.04.06
申请人
万国商业机器公司
发明人
卫斯李察S WISE, RICHARD S.;陈葆密A CHEN, BOMY A.;哈迪马克C HAKEY, MARK C.;叶宏文
分类号
H01L21/02
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
美国
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