发明名称 用于具有较低的层内电容之积体电路的线路结构
摘要 一种形成用于一积体电路之一线路结构的方法,该方包含形成复数个特征于一层介电质材料中,与形成间隙壁于该等特征之侧壁上。接着,形成导体于该等特征中,该等导体系籍由该等间隙壁与该等侧壁相隔开。之后,移除该等间隙壁,藉以在该等侧壁形成空气间隙,使得该等导体藉由该等空气间隙与该等侧壁相隔开。位于导体上方与下方之介电质层可以为低k值介电质,该低k值介电质具有小于该等导体之间的介电质之一介电常数。每一导体之一截面具有接触于该低k值介电质层之一底部、接触于另一低k值介电质之一顶部、及仅接触于该等空气间隙之一侧面。该等空气间隙系用以减低内层电容。
申请公布号 TW200539281 申请公布日期 2005.12.01
申请号 TW094110922 申请日期 2005.04.06
申请人 万国商业机器公司 发明人 卫斯李察S WISE, RICHARD S.;陈葆密A CHEN, BOMY A.;哈迪马克C HAKEY, MARK C.;叶宏文
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 美国