| 摘要 |
본 발명은 본 발명은 반도체 웨이퍼를 세정하는 세정액을 공급하는 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게 설명하면, 웨이퍼의 기판상에 잠상(潛像)으로 금속막 패턴을 형성하는 과정 및 웨이퍼를 세정하는 과정에서 사용되는 세정액이나 코팅용제 등의 약액을 약액저장조에 공급할 때, 두가지 이상의 약액의 혼합을 효율적으로 이루어지도록 하고, 혼합된 약액의 공급시 흐름이 원활한 웨이퍼 세정액 공급장치에 관한 기술분야가 개시된다. 또한, 본 발명은 일측 상부에 혼합수가 유입되는 유입구와 타측 상부에 혼합수가 배출되는 배출구가 형성된 하우징과 상부 말단이 유입구와 연결되고, 하우징의 내부에 길이방향으로 형성되는 혼합관 및 혼합관의 외측에 설치되는 히팅코일을 포함하여 구현되는 웨이퍼 세정액 공급장치를 제시한다. |
