| 主权项 |
1﹒下式化合物之制法:上式中R乃C1─C4烷基;包括反应成下式化合物:上式中R如前文界定,X为溴或氯与等莫耳量至三莫耳量之细微固体之氢氧化钠或氢氧化钾的氢氧化硷金属于及分散在惰性与水不混合溶剂内,在0℃至35℃范围温度内反应。2﹒一种根据请求专利部份第1项之制法,其中R乃甲基或乙基,X为溴或氯;氢氧化硷金属用量乃由氢氧化钠与请求专利部份第1项中式Ⅱ化合物之1﹒1:1至1:3之克分字量比例计算之;与水不混合之溶剂乃二氯甲烷;温度范围系20─30℃。3﹒一种根据请求专利部份第2项之制法,其中R乃乙基;X为溴;硷金属氢氧化物乃氢氧化钠与式Ⅱ化合物之1:2至1:3之克分子量比例计算之;溶剂系二氯甲烷;温度范围乃20─30℃。 |
