发明名称 制造一种并合结构物之方法其中并合结构物上之铜层可由其所连结之铝载体层剥离者
摘要
申请公布号 TW042218 申请公布日期 1982.03.01
申请号 TW06913304 申请日期 1980.11.26
申请人 古尔德电子公司 发明人 爱伯特.伊.那奇
分类号 C25B11/04;H05K1/02 主分类号 C25B11/04
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项 1﹒一种用来制造一适用于使用在印刷电路之制造 上 之并合结构之方法,此并合结构包括一铝载体层 及一铜盖覆层,此结构之特征乃在于铜层系被紧 紧的结合在该铝载体层上但可藉由机械手段从该 铝载体层分离而不损坏铜层之完整性,此制造方 法包含下列步骤(a)提供一铝箔层,(b)洗 涤该铝箔之至少其中之一主要表面以去除其上之 表面污垢物。(c)将铝箔安置在一适当的电解 液中并依一可使该箔成为阳极的以活化该铝箔之 表面之方法将电疏通过该箔(d)将该活化的箔 安置在一适当的电解液中并依一可使该箔成为阳 极的以在该箔之表面上形成一薄的氧化铝层之方 法将定流通过该箔,及(e)将一薄的酮层电极 淀积在铝箔之阳极处理的表面上。 2﹒依据请求专利部份第1项之制法,其中用来完成 步骤(c)之电解液包含体积百分比约从53至 73%之磷酸,约从5至约25%之硫酸,及约 从12 至约32%之水。 3﹒依据请求专利部份第1项之制法,其中步骤(d )由所使用之电解液包含体积百分比约从53至 73%的磷酸,约从5至约25%之硫酸,及约 从12至32%之水。 4﹒一种并合结构适用于使用在印刷电路之制造上 , 包括一铝载体层及一铜盖覆层,此并合结构之特 征乃在于铜层系被紧紧的结合在该铝载体层上但 可藉由机械手段从该铝载体层分离而不损坏铜层 之完整性,此种并合结构系藉由一制造方法来制 造,此制造方法包含下列步骤:(a)提供一铝 箔层(b)洗涤铝箔之至少其中之一主要表面, 以去除其上之表面污垢物(c)将铝箔安置在一 适当的电解液中并依一可使该箔成为阴极的以活 化铝箔之表面之方法将电流通过该铝箔(d)将 该活化的箔安置在一适当的电解液中并依一种可 使该箔成为阳极的以在其表面上形成一薄的氧化 铝层之方法将电流通过该箔,及(e)将一薄的 铜层电极淀积在铝箔之阳极处理的表面上。 5﹒依据请求专利部份第4项之并合结构,其中步骤 (C)之电解液包含体积百分比约从53至73 %之磷酸,约从5至约25%之硫酸,及约从1 2至32%之水。 6﹒依据请求专利部份第4项之并合结构,其中步骤 (d)之电解液包含体积百分比约从53至73 %之磷酸,约从5至约25%之硫酸,及约从1 2至32%之水。
地址 美国
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