发明名称 2–羟基 –6–羟酸之制法
摘要
申请公布号 TW043480 申请公布日期 1982.05.01
申请号 TW07013500 申请日期 1981.12.07
申请人 上野制药应用研究所股份有限公司 发明人 上野隆三;土屋宽明;村本康一;桑江良彦
分类号 C07C65/11 主分类号 C07C65/11
代理机构 代理人 陈世雄 台北巿大安区一○六六一敦化南路六九五号八楼
主权项 1﹒由实质上无水之─酚酸钾及二氧化碳之反应制造2─羟基─6─羧酸之改良制法,其特征为反应在至少180℃之温度及至少1kg/cm2﹒G之二氧化碳压力下进行,当作原料之p─酚酸钾或其混合物在反应条件下为液体。2﹒依请求专利部份第1项之制法,其中原料混合物每莫耳─酚酸钾含自由─酚0﹒1莫耳以下。3﹒依请求专利部份第1或2项之制法,其中二氧化碳压力至少5﹒5ke/cm2﹒G。4﹒依请求专利部份第1-3项中任一项之制法,其中原料混合物含熔点低于180℃之反应介质。5﹒依请求专利部份第4项之制法,其中反应介质为至少一种选自脂族烃,脂环族烃、芳族烃及芳族醚者。6﹒依请求专利部份第4或5项之制法,其中反应介质为沸点150-400℃者。7﹒依请求专利部份第5或6﹒项之制法,其中脂族烃、脂环族烃或芳族烃为石油系之烃。8﹒依请求专利部份第4-7项中任一项之制法,其中反应介质之用量为─酚酸钾重量之0﹒5─10倍。9﹒依请求专利部份第1-8项中任一项之制法,为从反应后之混合物选取2-羟基-6─羧酸,将含2-羟基-6-羧酸及2-羟基-3-羧酸及/或其盐之混合物之溶液或悬浮液调整为pH3﹒5-6。10﹒依请求专利部份第1-9﹒项中任一项之制法,其中于反应后混合物加水;若有反应介质则分离之;必要时从水层以液型析出落层而分离之;用在110℃以下为液体之疏水性抽取溶剂从水层抽取-酚;将抽取后留下之水层予以酸沉淀。
地址 日本国大阪巿东区高丽桥二丁目錂1番地