发明名称 BAIN DE NICKELAGE NON ELECTROLYTIQUE SANS AMMONIAC ET PROCEDE POUR LA METALLISATION DE NON-CONDUCTEURS
摘要 <P>LE BAIN DE NICKELAGE SELON L'INVENTION CONTIENT EN SOLUTION AQUEUSE:</P><P>A.D'ENVIRON 0,025 A 0,2MOLL D'IONS NICKEL,</P><P>B.D'ENVIRON 0,1 A 0,5MOLL D'IONS HYPOPHOSPHITES,</P><P>C.UN AGENT CHELATANT SANS AMMONIAC NON AMINE POUR LESDITS IONS NICKEL, EN EXCES PAR RAPPORT A LA QUANTITE STOECHIOMETRIQUE NECESSAIRE POUR COMPLEXER LESDITS IONS NICKEL, ET</P><P>D.UNE AMINE SOLUBLE EFFICACE POUR COMPLEXER LES IONS PALLADEUX EN MILIEU ALCALIN SANS REDUCTION NOTABLE DE LA VITESSE DE DEPOT DU NICKEL.</P><P>APPLICATION: NICKELAGE SUR UNE SURFACE CATALYTIQUEMENT ACTIVEE D'UN SUPPORT NON CONDUCTEUR; LE BAIN DE L'INVENTION A UNE TOLERANCE PARTICULIEREMENT ELEVEE AUX IONS PD.</P>
申请公布号 FR2510612(A1) 申请公布日期 1983.02.04
申请号 FR19810014981 申请日期 1981.07.31
申请人 ENTHONE INC 发明人 EUGENE F. YARKOSKY, ANTHONY J. MARCZAK ET MICHAEL J. ALEKSINAS;MARCZAK ANTHONY J;ALEKSINAS MICHAEL J
分类号 C23C18/36;(IPC1-7):C23C3/02 主分类号 C23C18/36
代理机构 代理人
主权项
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