| 主权项 |
1.一种可由紫外光辐射固化之涂覆组成物,包含:100份重量之下式带有烷氧官能基之矽烷的酸水解生成物:Ra1 - Si - ( OR2 )4-a式中, R1 及 R2 表示相同或互异之一价烃基,a 为 0至3 之间之整数; 10 至1000 份重量之下式带有丙烯氧官能基之矽烷的酸水解生成物;其中, R3 及 R4 表示相同或互异之一价烃基, R5 表示具有 C2 -C8 之二价烃基, R6 表示氢或一价烃基, b为1 至3 之间之整数,c 为0 至2 之间之整数,d 为一整数,其値等于4 - b - c ;或使用以下通式所示之带有缩水甘油氧官能基之矽烷 ( glycidoxy-functionalsilanes ) 的酸水解生成物:式中, R7 及 R5 表示相同或互异之一价烃基, R9 表示具有 C2 -C8 之二价烃基,e 为1 至3 之间之整数,f 为0 至2 之间之整数,g 为一整数,其値等于 4 -e - f;及彼等之混合物;以及催化剂量之阳离子光启发剂。2.如请求专利部份第1.项之组成物,其中该带有烷氧官能基之矽烷系指四乙氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、二乙氧基矽烷、三乙基乙氧基矽烷、四甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷以及三甲基甲氧基矽烷。3.如请求专利部份第1.项之组成物,其中该带有丙烯氧官能基之矽烷系指:3 - 甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷3 - 丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷2 - 甲基丙烯氧基三甲氧基矽烷2 - 丙烯氧基乙基三甲氧基矽烷3 - 甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷3 - 丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷2 - 甲基丙烯氧基乙基三乙氧基矽烷2 - 丙烯氧基乙基三乙氧基矽烷4.如请求专利部份第1.项之组成物,其中该带有缩水甘油氧官能基之矽烷系指:3 - 缩水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷3 - 缩水甘油氧基乙基三甲氧基矽烷3 - 缩水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷3 - 缩水甘油氧基乙基三乙氧基矽烷5.如请求专利部份第1.项之组成物,其中该光启发剂系为一种下式之对辐射敏感之芳香季卤 ( halonium ) 或季磺酸 ( sulfonium )盐:( R10 - C6H4 )nX+ [MQh]-式中,X表示 I、 P 或 S 基 ; M表示金属或准金属,Q 表示卤基,如 C1、 F、 Br 或I ;R10 表示氢或具有C1 - C12 之一价烃基,h 为4 至6 (含)之间之整数,而n 为一整数,其値为2或3。6.如请求专利部份第5.项之组成物,其中[ MQh ] - 系指SbF6 - ,AsF6 -,BF4 - 及 PF6 - 。7.如请求专利部份第1.项之组成物,其中另含有大约5 至50 份重量之丙烷三丙烯酸三羟甲酯 ( trimethylol-propanetriacrylats )。8.如请求专利部份第1.项之组成物,其中该阳离子光启发剂之含量,对每100 份该带有烷氧官能基之矽烷而言,大约在0.01 至 5 份重量之间。9.如请求专利部份第5.项之组成物,其中该阳离子光启发剂系与另一种游离基型态之光启发剂混合使用。10.如请求专利部份第9.项之组成物,其中该游离基型态之光启发剂系指乙基苯偶姻醚 ( ethyl benzoinether)、异丙基苯偶姻醚及二甲氧基苯基.乙醯苯( dimethoxyphenylacetophenone) 。 |
