发明名称 去除含放射性包覆层之金属表面萒染之方法及装置
摘要
申请公布号 TW074344 申请公布日期 1986.02.01
申请号 TW074100603 申请日期 1985.02.13
申请人 西屋电气公司 发明人
分类号 G21F9/30 主分类号 G21F9/30
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种去除金属表面污染之方法,其表面上有放射性之包覆层,其中含有金属离子,此方法为:(a)使一种至小含有一种为该金属离子用之蛰(钳)合物之去污水溶液,流经该包覆层以溶解该金属离子;(b)将该去污水溶液,通过一多孔之直流电极,从该溶液中除去该金属离子;(c)再使该去污水溶液,流经该包覆层。2.如请求专利部份第1.项之方法,其中该去污溶液包含乙(撑)二胺四醋酸(乙底酸,EDTA),草酸及柠檬酸。3.如请求专利部份第1.项之方法,其中该多孔直流电极为一种不锈钢之饰。4.如请求专利部份第1.项之力法,其中该蛰(钳)合物,由一群含有乙(撑)二胺四醋酸(乙底酸,EDTA)及脂二乙酸(Nitrilotriacetic acid,NTA)及其混合中所选出者。5.如请求专利部份第1.项之方法,包括外加之一步骤,即使该去污水溶液在流经该多孔直流电极之前,先流经一离子交换柱。6.一种去污被污染之金属表面之装置,其中之包筱层中含有放射性物质,为一种金属离子状,为去除其金属离子,该装置包含:(a)装载去污水溶液之容器配备;(b)多孔之电极。(c)流通该去污水溶液于该容器配备,该多孔电极及该金属表面之循环配备。7.如请求专利部份第6.项之装置,包括一离子交换柱,及使该去污水溶液在流经该多孔电极之前,先流经该交换柱之配备。8.如请求专利部份第6.项之装置,其中该多孔电由不锈钢之筛为之。9.如请求专利部份第6.项之装置,包括一容器,其中置放该金属表面。
地址 美国