| 主权项 |
1.一种经涂覆物件,包含具有一层连续胶凝矽石粒子网路涂层之基质,该涂层之厚度实质上均匀且接近永久粘附在该基质上。2.根据上述请求专利部份第1项之被覆层物件,其中该矽石粒子之主要粒子大小约小于200埃。3.根据上述请求专利部份第1项之被覆层物件,其中该涂层提供180度回撕値至少约150g/cm。4.根据上述请求专利部份第1项之被覆层物件,其中该涂层为约20至500nm厚。5.根据上述请求专利部份第1项之被覆层物件,其中该涂层系从可提供敞口孔隙度约25至70%之乾产品的胶体溶液制得者。6.根据上述请求专利部份第1项之被覆层物件,其中该涂层含至少约20%重量比水。7.根据上述请求专利部份第1项之被覆层物件,其中该基质为透明者。8.根据上述请求专利部份第7项之被覆层物件,其中该通过期间之400至80Onm波长范围正入射光之透光度比较组成相同而未涂层基质之透光度为增高。9.根据上述请求专利部份第8项之被覆层物件,其中该平均透光度至少增加2%。10.根据上述请求专利部份第8项之被覆层物件,其中该涂层为约70至250nm厚。11.根据上述请求专利部份第8项之被覆层物件,其中该涂层之折射指教为约1.15至1.40。12.根据上述请求专利部份第1或7项之被覆层物件,其中该基质为聚合物。13.形成根据上述请求专利部份第1项之被覆层物件之方法,包含对该基质被覆以含胶体矽氧粒子溶液,于低于该基质降解温度下乾燥涂层而形成实质连续之矽氧粒子胶凝网路,其厚度实质均匀且实质永久性粘附至该基质上14.根据上述请求专利部份第13项之方法,其中该等粒子之平均主要粒子大小约小于200埃。15.根据上述请求专利部份第13项之方法,其中该涂层系于低于200C之温度乾燥者。16.根据上述请求专利部份第13项之方法,其中该涂层系于80C至120C范围之温度乾燥者。 |
