| 主权项 |
1﹒一个光罩式投射光学系统,其特征在于:一个能产生能量光线的曝光能量源,一个放在该光线路径上的光学元件以吸收该能量光线并且只让部分该光线通过,一个放在的该部分通过的光线的路径上的折射透镜组以接收及传送该部分之能量光线,一个放在该光线部分的路径上的分度镜,该分度镜原度均匀且在其一表面上具有一图形,还有一个非图型部分紧邻于其上,该分度镜位于该光学系统之焦面上,该分度镜的放置是为了能让该光线的部分的通过该厚度至该图形上,且能从该图形上反射该部分的光线通过该厚度及该透镜组到该光学元件,该光学元件接收来自该图形之该反射光线且包含一光线反射装置来将一部分该反射光线反射回该透镜组及该分度镜的非图型部分,而以该图形达成一表面成像。2﹒依据申请专利范围第1项所述之光学系统,其特征在于该光学系统为一单位放大系统。3﹒依据申请专利范围第1项所述之光学系统,其特征在于该分度镜的图型是由一种对于光学曝能量具有高度反射率的物质所制成,其中在该分度镜内还包含一实体上地完全盖住且接触到该分度镜图型的装置,该覆盖装置对于光学曝光能量具有高度的吸收率及低度的反射率。4﹒依据申请专利范围第1项所述之光学系统,其特征在于该光学元件是一在表面上有一层能部分反射该曝光能量光线的熔凝二氧化矽,其中在该光学元件内包含一最接近该曝光能量源之第一表面及轴向地位于该第二表面及该折射透镜组间之第二凸面,该第二凸面具有该部分反射层于其上,且该部分反射层为一种介电质层,在曝光能量下其反射率的范围为25%到75%。5﹒依据申请专利范围第1项所述之光学系统,其特征在于该折射透镜组包含一由熔凝二氧化矽所制成的凹凸透镜,其第一凸面向该光学元件且一凹面背向该光学元件,和一由氟化锂制成之平凸透镜,其第二凸面面向该凹面;其平坦面背向该主透镜组。6﹒依据申请专利范围第5项所述之光学系统,其特征在于备有维持该分度镜与该平凸透镜的该平坦面间的移动且平行关系之装置,且其中,该分度镜元件与该平坦面有些间隔,其更包含为半导体晶片固定在一能平行且相隔于该分度镜之有图型的表面的装置。7﹒依据申请专利范围第5项所述之光学系统,其特征在于该折射透镜更包含一由氟化钡所制成的第二凹凸透镜,放在该凹凸透镜及该平凸透镜之间。8﹒依据申请专利范围第5项所述之光学系统,其特征在于该折射透镜更包含由氟化钙所制成的双平面元件,放在该平凸透镜的该平坦面及该分度镜元件之间。9﹒一种光学投射系统所使用的分度镜,其特征在于有一个预先定好均匀厚度的透明构件,其厚度两边有一对平行的表面,在其中一个该表面上具有一由以在光学曝光能量下具有高度反射率的物质所制成之多个被分隔元件所界定成的分度镜图型,在该分度镜图型上有实际接触且完合覆盖该分度镜图型之装置,该覆盖装置在光学曝光能量卜具有高吸收率及低反射率俾完全阻挡在该等分隔元件间通过该分度镜图型之光学能量的透射或反射作用,该图型具有预先设好的外尺寸,而且有对应的透明窗口穿经该覆盖装置为置成紧邻着该图型以供自该等分度镜图型元件反射并复制该分度镜图型之一束光学曝光能量透射穿过该窗口。10﹒依据申请专利范围第9项所述之分度镜,其特征在于该分度镜图型为铝制,其中该覆盖装置对光学曝光能量为不透光的。11﹒依据申请专利范围第10项所述之分度镜,其特征在于该覆盖装置是光敏的。12﹒依据申请专利范围第9项所述之分度镜,其特征在于该透明构件为熔凝二氧化矽,其厚不超0﹒。13﹒一个光罩式投射光学系统的特征在于,一个曝光能量源,一个透镜组合以接收及传送该能量源的能量光线,该透镜组合中在离该能量源最远末端有一分度镜,该分度镜有一图型在其离该能量源最远的表面上并位于该透镜组的焦面上,以接收穿过该透镜组合之该能量光线,将来自该图形之能量光线经过该分度镜及该透镜组合投射回去,及一个镜子以再接收从该透镜组合出来的该投射图型反射部份,并经过该透镜组合及该分度镜将该图型反射回去而到达一成像表面。图示简单说明第l图系美国专利案号4,391,494中描述的光学投射系统的略图。第2A及2B图系第l图中系统可使用场的略图表。第3A图系本发明中投射及中继照明光学系统的略图。第3B图系第3A图中系统部分的放大图。第3C图系本发明中投射光学系统第二实施例的部分略图。第4图系第3A、3B、3C图中所使用的分度镜组合的部分略图。第5A及5B图系第3图的光学系统中利用标准的分度镜印出来的图。第6A及6B图系由较早的技术所制造的穿透式分度镜及本发明中反射式分度镜的比较图。第7图系显示一种较适合本发明的分度镜台及晶片卡盘。 |
