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发明名称 PROCESS OF SELECTIVE ETCHING OF SILICON-CONTAINING LAYER IN MULTILAYER STRUCTURES
摘要
申请公布号 RU1819356(C) 申请公布日期 1993.05.30
申请号 SU19904834005 申请日期 1990.06.04
申请人 PROIZVODSTVENNOE OB"EDINENIE "ALFA" IM.60-LETIYA SSSR 发明人 STASYUK IGOR O;KUNITSIN ANATOLIJ V;FOMINYKH NIKOLAJ A;IVANKOVSKIJ MAKSIM M;MEERTAL IGOR O;OSTAPCHUK SERGEJ A
分类号 H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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